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1. (WO2012096368) METHOD FOR PRODUCING MOLD FOR FINE PATTERN TRANSFER, METHOD FOR PRODUCING DIFFRACTION GRATING USING SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC EL ELEMENT WHICH COMPRISES THE DIFFRACTION GRATING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/096368    International Application No.:    PCT/JP2012/050564
Publication Date: 19.07.2012 International Filing Date: 13.01.2012
IPC:
B29C 33/38 (2006.01), B29C 33/42 (2006.01), B29C 39/26 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01), B82B 1/00 (2006.01), B82Y 40/00 (2011.01), G02B 5/18 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/02 (2006.01), B29L 11/00 (2006.01)
Applicants: JX Nippon Oil & Energy Corporation [JP/JP]; 6-3, Otemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008162 (JP) (For All Designated States Except US).
TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY [JP/JP]; 12-1, Ookayama 2-chome, Meguro-ku, Tokyo 1528550 (JP) (For All Designated States Except US).
MASUYAMA, Satoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
FUKUSHIMA, Madoka [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NISHIMURA, Suzushi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
FUKUDA, Maki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SEKI, Takashi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MASUYAMA, Satoshi; (JP).
FUKUSHIMA, Madoka; (JP).
NISHIMURA, Suzushi; (JP).
FUKUDA, Maki; (JP).
SEKI, Takashi; (JP)
Agent: KAWAKITA, Kijuro; YKB Mike Garden, 5-4, Shinjuku 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Priority Data:
2011-006487 14.01.2011 JP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING MOLD FOR FINE PATTERN TRANSFER, METHOD FOR PRODUCING DIFFRACTION GRATING USING SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC EL ELEMENT WHICH COMPRISES THE DIFFRACTION GRATING
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MOULE POUR TRANSFERT DE MOTIF FIN, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE RÉSEAU DE DIFFRACTION AVEC CELUI-CI, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE COMPORTANT CE RÉSEAU
(JA) 微細パターン転写用のモールドの製造方法及びそれを用いた回折格子の製造方法、並びに該回折格子を有する有機EL素子の製造方法
Abstract: front page image
(EN)A method for producing a mold comprises: to coat a base (10) with a block copolymer solution (30), said block copolymer being composed of first and second polymers; to carry out a first annealing process at a temperature higher than the glass transition temperature of the block copolymer after drying the coating film; to form a microrelief structure (36) on the base by removing the second polymer by an etching process; to subject the microrelief structure (36) to a second annealing process at a temperature higher than the glass transition temperature of the first polymer; to form a seed layer (40) on the microrelief structure; to laminate a metal layer (50) on the seed layer (40) by electroforming; and to remove the metal layer (50) from the base. The microrelief structure (70) on the base is successfully transferred to the metal layer by the second annealing process. Consequently, a mold for fine pattern transfer, which is suitable for the production of an optical component such as a diffraction grating, is provided.
(FR)L'invention porte sur la fabrication d'un moule qui consiste : à revêtir une base (10) d'une solution de copolymère à blocs (30), ledit copolymère à blocs étant composé de premier et second polymères ; à effectuer un premier traitement de recuit à une température supérieure à la température de transition vitreuse du copolymère à blocs, après le séchage du film de revêtement ; à former une structure en microrelief (36) sur la base en éliminant le second polymère par un traitement de gravure ; à soumettre la structure en microrelief (36) à un second traitement de recuit à une température supérieure à la température de transition vitreuse du premier polymère ; à former une couche d'ensemencement (40) sur la structure en microrelief ; à stratifier une couche métallique (50) sur la couche d'ensemencement (40) par électroformage ; à enlever la couche métallique (50) de la base. La structure en microrelief (70) sur la base est transférée avec succès à la couche métallique par le second traitement de recuit. Par conséquent, un moule pour transfert de motif fin, qui est approprié pour la fabrication d'un composant optique tel qu'un réseau de diffraction, est obtenu.
(JA) モールドの製造方法は、基材10に第1及び第2のポリマーからなるブロック共重合体溶液30を塗布し、塗膜を乾燥させた後、ブロック共重合体のガラス転移温度より高い温度で第1アニール処理し、エッチング処理により第2ポリマーを除去して基材上に凹凸構造36を形成し、凹凸構造36を第1のポリマーのガラス転移温度より高い温度で第2アニール処理し、次いで、凹凸構造上にシード層40を形成し、シード層40上に電鋳により金属層50を積層し、金属層50を基材から剥離することを含む。第2アニール処理により、基材上の凹凸構造70が金属層に良好に転写される。回折格子のような光学部品の製造に好適である微細パターン転写用のモールドが提供される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)