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1. (WO2012096322) ACTIVE ENERGY RAY-CURABLE RESIN COMPOSITION, MICRORELIEF STRUCTURE, AND METHOD FOR PRODUCING MICRORELIEF STRUCTURE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/096322    International Application No.:    PCT/JP2012/050415
Publication Date: 19.07.2012 International Filing Date: 12.01.2012
IPC:
C08F 290/06 (2006.01), B29C 59/04 (2006.01), C08F 299/00 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: MITSUBISHI RAYON CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008253 (JP) (For All Designated States Except US).
TAKIHARA, Tsuyoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OKAMOTO, Eiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OTANI, Go [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NAKAI, Yusuke [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TAKIHARA, Tsuyoshi; (JP).
OKAMOTO, Eiko; (JP).
OTANI, Go; (JP).
NAKAI, Yusuke; (JP)
Agent: MIYAZAKI, Teruo; 8th Floor, 16th Kowa Bldg., 9-20, Akasaka 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1070052 (JP)
Priority Data:
2011-004085 12.01.2011 JP
2011-004091 12.01.2011 JP
Title (EN) ACTIVE ENERGY RAY-CURABLE RESIN COMPOSITION, MICRORELIEF STRUCTURE, AND METHOD FOR PRODUCING MICRORELIEF STRUCTURE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE DURCISSABLE PAR RAYONNEMENT À ÉNERGIE ACTIVE, STRUCTURE DE MICRORELIEF, ET PROCÉDÉ POUR PRODUIRE UNE STRUCTURE DE MICRORELIEF
(JA) 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、微細凹凸構造体及び微細凹凸構造体の製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is an active energy ray-curable resin composition which contains a multifunctional monomer that has at least three radically polymerizable functional groups in each molecule. A cured product of the active energy ray-curable resin composition provides a microrelief structure which exhibits an antireflective function due to a microrelief pattern formed on the surface thereof, while having high scratch resistance and excellent dirt removal performance such as fingerprint removal performance.
(FR)La présente invention concerne une composition durcissable par rayonnement à énergie active qui contient un monomère multifonctionnel qui a au moins trois groupes fonctionnels polymérisables par voie radicalaire dans chaque molécule. Un produit durci de la composition de résine durcissable par analyse à énergie active présente une structure de microrelief qui présente une fonction antiréfléchissante grâce à un motif de microrelief formé sur la surface de celui-ci, tout en ayant une résistance à la rayure élevée et d'excellentes performances d'élimination de la salissure telles que des performances d'élimination des traces de doigt.
(JA) 本発明は、少なくとも分子内に3個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能モノマーを含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物であって、その硬化物は、表面に形成された微細凹凸構造により反射防止機能を示し、指紋汚れ除去性等の汚染物の除去性に優れると共に、高い耐擦傷性を兼備する微細凹凸構造体を提供する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)