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1. (WO2012096264) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RADIATION-SENSITIVE ACID GENERATOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/096264    International Application No.:    PCT/JP2012/050290
Publication Date: 19.07.2012 International Filing Date: 10.01.2012
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), C07C 309/12 (2006.01), C07C 381/12 (2006.01), C08K 5/42 (2006.01), C08L 33/04 (2006.01), C09K 3/00 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP) (For All Designated States Except US).
MARUYAMA Ken [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MARUYAMA Ken; (JP)
Agent: AMANO Kazunori; c/o Amano & Partners, 6th Floor, Fujikogyo-Nishimotomachi Building, 1-18, Aioi-cho 1-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6500025 (JP)
Priority Data:
2011-002627 11.01.2011 JP
2011-213584 28.09.2011 JP
Title (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RADIATION-SENSITIVE ACID GENERATOR
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS ET GÉNÉRATEUR D'ACIDE SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS
(JA) 感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生剤
Abstract: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a radiation-sensitive resin composition capable of forming a chemically amplified resist film which, when developed, exhibits excellent pattern collapse resistance, LWR and MEEF, and excellent balance thereamong. This radiation-sensitive resin composition comprises [A] a compound represented by formula (1) and [B] a base polymer. In formula (1), R1 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, with the provisos that the hydrocarbon group may have at least one kind of group selected from the group consisting of -CO-, -COO-, -OCO-, -O-CO-O-, -NHCO-, -CONH-, -NH-CO-O-, -O-CO-NH-, -NH-, -S-, -SO-, -SO2- and -SO2-O- and that some or all of the hydrogen atoms of the hydrocarbon group may be replaced; and M+ is a monovalent cation.
(FR)La présente invention a pour but de proposer une composition de résine sensible aux rayonnements, apte à former un film de résist chimiquement amplifié qui, lorsqu'il est développé, présente une excellente résistance à l'affaissement du motif, une excellente rugosité de largeur de trait (LWR) et un excellent facteur amplifié d'erreur de masque, et un excellent équilibre entre ces propriétés. Cette composition de résine sensible aux rayonnements comprend [A] un composé représenté par la formule (1) et [B] un polymère de base. Dans la formule (1), R1 représente un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 30 atomes de carbone, aux conditions que le groupe hydrocarboné puisse avoir au moins une sorte de groupe choisi dans le groupe consistant en ‑O-, -COO-, -OCO-, -O-CO-O-, -NHCO-, -CONH-, -NH-CO-O-, -O-CO-NH-, -NH-, -S-, -SO-, -SO2- et -SO2-O- et qu'une partie ou la totalité des atomes d'hydrogène du groupe hydrocarboné puisse être remplacée ; et M+ représente un cation monovalent.
(JA) 現像後のパターン倒れに対する耐性、LWR及びMEEFが良好で、それらのバランスに優れた化学増幅型レジスト膜を形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。本発明の感放射線性樹脂組成物は、[A]下記式(1)で表される化合物、及び[B]ベース重合体を含む感放射線性樹脂組成物である。 (式(1)中、Rは、炭素数1~30の1価の炭化水素基である。但し、上記炭化水素基は、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-CO-O-、-NHCO-、-CONH-、-NH-CO-O-、-O-CO-NH-、-NH-、-S-、-SO-、-SO-及び-SO-O-からなる群より選択される少なくとも1種の基を有していてもよい。また、上記炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。Mは、1価のカチオンである。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)