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1. (WO2012093609) COATING AND DEVELOPING APPARATUS, COATING AND DEVELOPING METHOD, AND STORAGE MEDIUM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/093609    International Application No.:    PCT/JP2011/080046
Publication Date: 12.07.2012 International Filing Date: 26.12.2011
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/677 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP) (For All Designated States Except US).
KUROIWA, Keizou [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OGATA, Kunie [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MATSUOKA, Nobuaki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TASAKI, Nobuyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MIYATA, Akira [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KUROIWA, Keizou; (JP).
OGATA, Kunie; (JP).
MATSUOKA, Nobuaki; (JP).
TASAKI, Nobuyuki; (JP).
MIYATA, Akira; (JP)
Agent: KANEMOTO, Tetsuo; Hazuki International, Kakubari Building, 1-20, Sumiyoshi-cho, Shinjuku-ku, Tokyo 1620065 (JP)
Priority Data:
2011-000756 05.01.2011 JP
Title (EN) COATING AND DEVELOPING APPARATUS, COATING AND DEVELOPING METHOD, AND STORAGE MEDIUM
(FR) APPAREIL DE REVÊTEMENT ET DE DÉVELOPPEMENT, PROCÉDÉ DE REVÊTEMENT ET DE DÉVELOPPEMENT ET MOYEN DE STOCKAGE
(JA) 塗布現像装置、塗布現像方法及び記憶媒体
Abstract: front page image
(EN)The present invention is a coating and developing apparatus which is configured so that after a coated layer has been formed on a substrate in a processing block, the substrate is transferred to an exposure device, development is performed in the processing block on the post-exposure substrate, and the substrate is then transferred to a carrier and which processes a greater number of substrates in a given time than the exposure device. This coating and developing apparatus comprises the following: a temporary holding unit in which the substrate is temporarily held once before exposure; a stop time setting unit in a substrate conveyance path that sets the length of time for which the conveyance of the upstream substrates is stopped, in order to carry out maintenance on the module in which the substrate is placed; and a control unit which monitors whether the number of substrates held in the temporary holding unit has reached the number of substrates processed by the processing block in accordance with the length of the stopping time, and supplies a control signal so as to stop conveyance of the upstream substrates in the temporary holding unit after the predetermined number of processed substrates has been reached.
(FR)La présente invention concerne un appareil de revêtement et d'élaboration configuré de sorte qu'une fois une couche revêtue formée sur un substrat dans un bloc de traitement, le substrat soit transféré vers un dispositif d'exposition, le développement est effectué dans le bloc de traitement sur le substrat après l'exposition, et le substrat est ensuite transféré sur un support, ledit appareil traitant un nombre de substrats dans un temps donné supérieur à celui du dispositif d'exposition. Cet appareil de revêtement et de développement comprend les éléments suivants : une unité de retenue temporaire dans laquelle le substrat est retenu temporairement une seule fois avant son exposition ; une unité de réglage de temps d'arrêt dans un trajet de transport de substrat réglant la longueur de temps pour laquelle le transport des substrats amont est arrêté, afin d'effectuer un entretien sur le module dans lequel le substrat est placé ; et une unité de commande surveillant si le nombre de substrats retenus dans l'unité de retenue temporaire a atteint le nombre de substrats traités par le bloc de traitement conformément à la longueur du temps d'arrêt, et fournissant un signal de commande de manière à arrêter le transport des substrats amont dans l'unité de retenue temporaire une fois le nombre prédéterminé de substrats traités atteint.
(JA) 本発明は、処理ブロックにおいて基板に塗布膜を形成された後、この基板を露光装置に受け渡し、露光後の基板に対して処理ブロックにおいて現像処理を行い、その後キャリアに受け渡すように構成され、同一時間あたりの基板の処理枚数が露光装置よりも多い塗布現像装置において、露光前の基板を一旦仮置きする仮置き部と、基板の搬送経路における、基板が置かれるモジュールについてメンテナンスを行うために、当該上流側の基板の搬送を停止する時間の長さを設定するための停止時間設定部と、仮置き部に置かれた基板の枚数が停止時間の長さに応じた、処理ブロックによる基板の処理枚数に達したか否かを監視し、所定の処理枚数に達した後に仮置き部の上流側の基板の搬送を停止するように制御信号を出力する制御部と、を備えている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)