WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2012093471) BEAM PROCESSING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/093471    International Application No.:    PCT/JP2011/050022
Publication Date: 12.07.2012 International Filing Date: 05.01.2011
IPC:
B23K 26/04 (2006.01), B23K 26/00 (2006.01), B23K 26/08 (2006.01)
Applicants: KONDO kiyoyuki [JP/JP]; (JP)
Inventors: KONDO kiyoyuki; (JP)
Agent: TAKUBO Yasuo; TN BLDG.,4F,2-32-6 Yushima,Bunkyou-ku, Tokyo 1130034 (JP)
Priority Data:
Title (EN) BEAM PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR FAISCEAU
(JA) ビーム加工装置
Abstract: front page image
(EN)A beam processing device (10) that irradiates the processing surface of a work (W) with a beam (LB) and processes the processing surface comprises the following: a power source (32) for emitting the beam (LB); a beam moving means (12) for moving the beam (LB) emitted from the power source (32); and a plurality of reflectors (14) that are disposed in the light path of the beam (LB) between the beam moving means (12) and the processing surface and that reflect the beam (LB) moved by the beam moving means (12) and guide the beam (LB) to the processing surface. The inclination angles of the plurality of reflectors (14) are set in accordance with the incident direction of the beam (LB) so that the beam (LB) moved by the beam moving means (12) becomes substantially perpendicular to a different position of the processing surface.
(FR)Un dispositif de traitement par faisceau (10) qui expose la surface de traitement d'une pièce (W) à un faisceau (LB) et qui traite la surface de traitement comprend les éléments suivants : une source d'alimentation (32) destinée à émettre le faisceau (LB) ; un moyen de déplacement de faisceau (12) destiné à déplacer le faisceau (LB) émis depuis la source d'alimentation (32) ; et une pluralité de réflecteurs (14) qui sont disposés dans le chemin de lumière du faisceau (LB) entre le moyen de déplacement de faisceau (12) et la surface de traitement et qui réfléchissent le faisceau (LB) déplacé par le moyen de déplacement de faisceau (12) et guident le faisceau (LB) jusqu'à la surface de traitement. Les angles d'inclinaison de la pluralité de réflecteurs (14) sont réglés conformément à la direction d'incidence du faisceau (LB) de sorte que le faisceau (LB) déplacé par le moyen de déplacement de faisceau (12) devienne sensiblement perpendiculaire à une position différente de la surface de traitement.
(JA)ビーム(LB)をワーク(W)の加工面に照射し、当該加工面を加工するビーム加工装置(10)において、前記ビーム(LB)を出力する出力源(32)と、前記出力源(32)から出力された前記ビーム(LB)を移動させるビーム移動手段(12)と、前記ビーム移動手段(12)と前記加工面との間の前記ビーム(LB)の光路中に配設され、前記ビーム移動手段(12)により移動される前記ビーム(LB)を反射し、前記加工面に導く複数の反射鏡(14)と、を備え、前記複数の反射鏡(14)は、前記ビーム移動手段(12)によって移動された前記ビーム(LB)を前記加工面の異なる位置に略垂直に導くように、前記ビーム(LB)の入射方向に応じた傾斜角度に設定される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)