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1. (WO2012093400) METHOD AND SYSTEM FOR USE IN MEASURING IN COMPLEX PATTERNED STRUCTURES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/093400    International Application No.:    PCT/IL2012/050003
Publication Date: 12.07.2012 International Filing Date: 03.01.2012
IPC:
G01B 11/24 (2006.01), G01N 21/47 (2006.01)
Applicants: NOVA MEASURING INSTRUMENTS LTD. [IL/IL]; Weizmann Scientific Park P.O.B. 266 76100 Rehovot (IL) (For All Designated States Except US).
BRILL, Boaz [IL/IL]; (IL) (For US Only).
SHERMAN, Boris [IL/IL]; (IL) (For US Only)
Inventors: BRILL, Boaz; (IL).
SHERMAN, Boris; (IL)
Agent: REINHOLD COHN AND PARTNERS; P.O.B. 13239 61131 Tel-Aviv (IL)
Priority Data:
61/429,195 03.01.2011 US
Title (EN) METHOD AND SYSTEM FOR USE IN MEASURING IN COMPLEX PATTERNED STRUCTURES
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME À UTILISER LORS DE LA MESURE DANS DES STRUCTURES À MOTIFS COMPLEXES
Abstract: front page image
(EN)A method and system are presented for use in measuring in complex patterned structures. A full model and at least one approximate model are provided for the same measurement site in a structure, said at least one approximate model satisfying a condition that a relation between the full model and the approximate model is defined by a predetermined function. A library is created for simulated data calculated by the approximate model for the entire parametric space of the approximate model. Also provided is data corresponding to simulated data calculated by the full model in selected points of said parametric space. The library for the approximate model data and said data of the full model are utilized for creating a library of values of a correction term for said parametric space, the correction term being determined as said predetermined function of the relation between the full model and the approximate model. This enable to process measured data by fitting said measured data to the simulated data calculated by the approximate model corrected by a corresponding value of the correction term.
(FR)L'invention concerne un procédé et un système à utiliser lors de la mesure dans des structures à motifs complexes. Un modèle complet et au moins un modèle approximatif sont fournis pour le même emplacement de mesure dans une structure, ledit modèle approximatif remplissant la condition selon laquelle la relation entre le modèle complet et ledit modèle approximatif est définie par une fonction préétablie. Une bibliothèque est créée pour les données simulées calculées par le modèle approximatif pour l'intégralité de l'espace des paramètres du modèle approximatif. Des données correspondant aux données simulées calculées par le modèle complet en des points sélectionnés dudit espace des paramètres sont également fournies. La bibliothèque destinée aux données du modèle approximatif et les données du modèle complet servent à créer une bibliothèque de valeurs d'un terme correctif pour ledit espace des paramètres, ce terme correctif étant déterminé comme ladite fonction préétablie de la relation entre le modèle complet et le modèle approximatif. Cela permet de traiter les données mesurées par adaptation desdites données mesurées aux données simulées calculées par le modèle approximatif corrigées par une valeur correspondante du terme correctif.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)