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1. (WO2012092828) METHOD FOR MANUFACTURING MULTI-DIMENSIONAL TARGET WAVEGUIDE GRATING AND VOLUME GRATING WITH MICRO-STRUCTURE QUASI-PHASE-MATCHING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/092828    International Application No.:    PCT/CN2011/085067
Publication Date: 12.07.2012 International Filing Date: 30.12.2011
IPC:
G02B 5/18 (2006.01)
Applicants: NANJING UNIVERSITY [CN/CN]; No.22 Hankou Road Gulou District Nanjing, Jiangsu 210093 (CN) (For All Designated States Except US).
SHI, Yuechun [CN/CN]; (CN) (For US Only).
CHEN, Xiangfei [CN/CN]; (CN) (For US Only)
Inventors: SHI, Yuechun; (CN).
CHEN, Xiangfei; (CN)
Priority Data:
201110001786.5 06.01.2011 CN
Title (EN) METHOD FOR MANUFACTURING MULTI-DIMENSIONAL TARGET WAVEGUIDE GRATING AND VOLUME GRATING WITH MICRO-STRUCTURE QUASI-PHASE-MATCHING
(FR) PROCÉDÉ POUR PRODUIRE UN RÉSEAU DE GUIDES D'ONDES CIBLE MULTIDIMENSIONNEL ET UN RÉSEAU VOLUMIQUE À QUASI-ACCORD DE PHASE DE MICROSTRUCTURES
(ZH) 微结构准相位匹配实现多维目标波导光栅和体光栅的制备方法
Abstract: front page image
(EN)A method for manufacturing a multi-dimensional target waveguide grating and volume grating with micro-structure quasi-phase-matching. An ordinary waveguide grating is used as a seed grating, and on this basis, a two-dimensional or three-dimensional sampling structure modulated with a refractive index, that is, a sampling grating, is formed. The sampling grating comprises multiple shadow gratings, and one of the shadow gratings is selected as a target equivalent grating. A sampled grating comprises Fourier components in many orders, that is, shadow gratings, a corresponding grating wave vector is [Formula 1], and the grating profile of all the shadow gratings changes with the sampling structure [Formula 2]. In a case where a seed grating wave vector [Formula 3] and a required two-dimensional or three-dimensional grating wave vector do not match, a certain Fourier periodic structure component of the Fourier components of the sampling structure is used to compensate for the wave vector mismatch. The manufacturing method may be applied to design and manufacture a multi-dimensional target waveguide grating and volume grating for any grating profile, and may simplify the grating manufacturing process and also make possible a variety of grating-based photon devices.
(FR)L'invention concerne un procédé pour produire un réseau de guides d'ondes cible multidimensionnel et un réseau volumique à quasi-accord de phase de microstructures. Un réseau de guides d'ondes ordinaire est utilisé comme réseau d'ensemencement et, sur cette base, une structure d'échantillonnage bidimensionnelle ou tridimensionnelle modulée avec un indice de réfraction, c'est-à-dire un réseau d'échantillonnage, est formée. Ce réseau d'échantillonnage comprend une pluralité de réseaux "ombre" dont l'un est sélectionné en tant que réseau équivalent cible. Un réseau échantillonné comprend des composantes de Fourier dans de nombreux ordres, c'est-à-dire des réseaux "ombre", un vecteur d'onde de réseau correspondant étant [formule 1], le profil de réseau de tous les réseaux "ombre" changeant en fonction de la structure d'échantillonnage [formule 2]. Lorsqu'un vecteur d'onde de réseau d'ensemencement [formule 3] et un vecteur d'onde de réseau bidimensionnel ou tridimensionnel requis ne correspondent pas, une certaine composante de structure périodique de Fourier des composantes de Fourier de la structure d'échantillonnage est utilisée pour compenser la non correspondance entre les vecteurs d'onde. Ce procédé de production peut être appliqué pour concevoir et produire un réseau de guides d'ondes cible multidimensionnel et un réseau volumique pour n'importe quel profil de réseau. De plus, il peut simplifier le processus de production de réseau et permet d'obtenir toute une gamme de dispositifs photoniques à base de réseaux.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)