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1. (WO2012092398) METHOD OF ENHANCING IRRADIANCE PROFILE FROM SOLAR CONCENTRATOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/092398    International Application No.:    PCT/US2011/067672
Publication Date: 05.07.2012 International Filing Date: 28.12.2011
IPC:
F24S 23/70 (2018.01)
Applicants: COOLEARTH SOLAR [US/US]; 4659 Las Positas Road, Suite C Livermore, California 94551 (US) (For All Designated States Except US).
DENTINGER, Paul [US/US]; (US) (For US Only).
PAGE, James [US/US]; (US) (For US Only).
LIPTAC, John [US/US]; (US) (For US Only).
MAESTAS, Stuart [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: DENTINGER, Paul; (US).
PAGE, James; (US).
LIPTAC, John; (US).
MAESTAS, Stuart; (US)
Agent: BASARKAR, Girish; Kilpatrick Townsend & Stockton LLP Two Embarcadero Center, 8th Floor San Francisco, California 94111 (US)
Priority Data:
61/428,203 29.12.2010 US
Title (EN) METHOD OF ENHANCING IRRADIANCE PROFILE FROM SOLAR CONCENTRATOR
(FR) PROCÉDÉ POUR AUGMENTER LE PROFIL D'IRRADIATION DEPUIS UN CONCENTRATEUR SOLAIRE
Abstract: front page image
(EN)Embodiments of the present invention include structures and methods for enhancing illumination uniformity from solar concentrators. Certain embodiments may use features on a reflective layer to globally correct for deviation in reflective behavior from a desired shape. Local features such as facets on a reflective layer are formed such that the resulting illumination profile represents a superposition of multiple facets. Features may be formed on a back film to correct the reflectance of the back film. In some embodiments, features may be formed on a front film to correct a profile from refraction. In some embodiments the corrections are for line concentrators. Global and local correction techniques may be used together, and may be used on front film or reflective film(s) together or separately. Global and/or local correction may also be used in combination with other approaches, such as secondary optic receiver compensation.
(FR)Les modes de réalisation de la présente invention portent sur des structures et des procédés permettant d'améliorer l'uniformité d'illumination depuis des concentrateurs solaires. Certains modes de réalisation font appel à des éléments sur une couche réfléchissante afin de corriger globalement les écarts de comportement de réflexion par rapport à une forme voulue. Des éléments locaux, comme des facettes sur une couche réfléchissante, sont formés de sorte que le profil d'illumination résultant représente une superposition de multiples facettes. Des éléments peuvent être formés sur un film arrière afin de corriger la réflectance du film arrière. Dans certains modes de réalisation, des éléments peuvent être formés sur un film avant afin de corriger un profil en ce qui concerne la réfraction. Dans certains modes de réalisation, les corrections portent sur des concentrateurs de ligne. Des techniques de correction globale et locale peuvent être utilisées ensemble, et peuvent être utilisées sur un film avant ou sur un ou plusieurs films réfléchissants ensemble ou séparément. Une correction globale et/ou locale peut également être utilisée en combinaison avec d'autres démarches, comme une compensation de récepteur optique secondaire.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)