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1. (WO2012092064) WAFER PROCESSING WITH CARRIER EXTENSION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/092064    International Application No.:    PCT/US2011/066489
Publication Date: 05.07.2012 International Filing Date: 21.12.2011
Chapter 2 Demand Filed:    26.10.2012    
IPC:
C23C 16/455 (2006.01), C23C 16/458 (2006.01), H01L 21/687 (2006.01)
Applicants: VEECO INSTRUMENTS INC. [US/US]; Terminal Drive Plainview, NY 11803 (US) (For All Designated States Except US).
MITROVIC, Bojan [RS/US]; (US) (For US Only).
WEI, Guanghua [CN/US]; (US) (For US Only).
ARMOUR, Eric, A. [US/US]; (US) (For US Only).
PARANJPE, Ajit [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: MITROVIC, Bojan; (US).
WEI, Guanghua; (US).
ARMOUR, Eric, A.; (US).
PARANJPE, Ajit; (US)
Agent: FARESE, Brent, L.; Lerner, David, Littenberg, Krumholz & Mentlik, LLP 600 South Avenue West Westfield, NJ 07090 (US)
Priority Data:
61/428,250 30.12.2010 US
Title (EN) WAFER PROCESSING WITH CARRIER EXTENSION
(FR) TRAITEMENT DE PLAQUETTE AVEC EXTENSION DE VECTEUR
Abstract: front page image
(EN)Apparatus for treating wafers (74) using a wafer carrier (40) rotated about an axis is provided with a ring (52) which surrounds the wafer carrier during operation. Treatment gasses directed onto a top surface (64) of the carrier flow outwardly away from the axis over the carrier and over the ring, and pass downstream outside of the ring. The outwardly flowing gasses form a boundary layer (B) over the carrier and ring. The ring helps to maintain a boundary layer of substantially uniform thickness over the carrier, which promotes uniform treatment of the wafers.
(FR)La présente invention concerne un appareil permettant de traiter des plaquettes (74) à l'aide d'un vecteur de plaquette (40) qui est amené à pivoter autour d'un axe et qui est muni d'un anneau (52) qui entoure le vecteur de plaquette pendant le fonctionnement. Des gaz de traitement, dirigés sur une surface supérieure (64) du vecteur circulent vers l'extérieur, en s'éloignant de l'axe sur le vecteur et sur l'anneau, et circulent vers l'aval, en dehors de l'anneau. Les gaz circulant vers l'extérieur forment une couche limite (B) sur le vecteur et l'anneau. L'anneau contribue à maintenir une couche limite d'épaisseur sensiblement uniforme sur le vecteur, ce qui favorise un traitement uniforme des plaquettes.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)