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1. (WO2012091908) METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING AN ELECTROSTATIC LENS ABOUT A CENTRAL RAY TRAJECTORY OF AN ION BEAM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/091908    International Application No.:    PCT/US2011/064413
Publication Date: 05.07.2012 International Filing Date: 12.12.2011
IPC:
H01J 37/12 (2006.01), H01J 37/15 (2006.01), H01J 37/317 (2006.01)
Applicants: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. [US/US]; 35 Dory Road Gloucester, MA 01930 (US) (For All Designated States Except US).
RADOVANOV, Svetlana [US/US]; (US) (For US Only).
KELLERMAN, Peter, L. [US/US]; (US) (For US Only).
SINCLAIR, Frank [US/US]; (US) (For US Only).
LINDBERG, Robert, C. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: RADOVANOV, Svetlana; (US).
KELLERMAN, Peter, L.; (US).
SINCLAIR, Frank; (US).
LINDBERG, Robert, C.; (US)
Agent: FABER, Scott, R.; Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 35 Dory Road Gloucester, MA 01930 (US)
Priority Data:
12/981,096 29.12.2010 US
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING AN ELECTROSTATIC LENS ABOUT A CENTRAL RAY TRAJECTORY OF AN ION BEAM
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE COMMANDE DE LENTILLE ÉLECTROSTATIQUE AUTOUR D'UNE TRAJECTOIRE DE RAYON CENTRAL D'UN FAISCEAU IONIQUE
Abstract: front page image
(EN)A method of controlling deflection of a charged particle beam in an electrostatic lens (700) includes establishing a symmetrical electrostatic lens configuration comprising a plurality of electrodes (714, 716) disposed at unadjusted positions (L1) that are symmetric with respect to the central ray trajectory (702) with applied unadjusted voltages that create fields symmetric with respect to the central ray trajectory. A symmetric electric field is calculated corresponding to the set of unadjusted voltages. A plurality of lower electrodes (716) is arranged at adjusted positions (L2) that are asymmetric with respect to the central ray trajectory. A set of adjusted voltages is obtained for the plurality of lower electrodes, wherein the set of adjusted voltages corresponds to a set of respective potentials of the symmetric electric field at respective adjusted asymmetric positions. The adjusted voltages are applied to the asymmetric lens configuration when the charged particle beam passes therethrough.
(FR)L'invention concerne un procédé de commande de déflexion d'un faisceau de particules chargées dans une lentille électrostatique, lequel consiste à établir une configuration de lentille électrostatique symétrique comprenant plusieurs électrodes disposées en des positions non ajustées qui sont symétriques par rapport à la trajectoire du rayon central avec des tensions appliquées non ajustées qui créent des champs symétriques par rapport à la trajectoire du rayon central. Un champ électrique symétrique est calculé en fonction de l'ensemble de tensions non ajustées. Plusieurs électrodes inférieures sont disposées en des positions ajustées qui sont asymétriques par rapport à la trajectoire du rayon central. Un ensemble de tensions ajustées est obtenu pour lesdites plusieurs électrodes inférieures, ledit ensemble de tensions ajustées correspondant à un ensemble de potentiels respectifs du champ électrique symétrique en des positions asymétriques ajustées respectives. Les tensions ajustées sont appliquées à la configuration de lentille asymétrique lorsque le faisceau de particules chargées passe au travers.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)