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Pub. No.:    WO/2012/091087    International Application No.:    PCT/JP2011/080377
Publication Date: 05.07.2012 International Filing Date: 28.12.2011
A62B 18/02 (2006.01), D01D 5/04 (2006.01), D01F 1/10 (2006.01), D04H 1/4382 (2012.01), D04H 1/728 (2012.01)
Applicants: TAIYOKAGAKU CO., LTD. [JP/JP]; 800, Yamada-cho, Yokkaichi-shi, Mie 5121111 (JP) (For All Designated States Except US).
TAKAYAMA, Shinji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NAGATO, Yukiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OKUBO, Tsutomu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OGASAWARA, Yutaka [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TAKAYAMA, Shinji; (JP).
NAGATO, Yukiko; (JP).
OKUBO, Tsutomu; (JP).
Agent: KOBAYASHI, Youhei; KY International Patent Firm, Win's Bldg. 2F., 4-44, Chuou-cho, Kuwana-shi, Mie 5110068 (JP)
Priority Data:
2010-294426 29.12.2010 JP
2011-112758 19.05.2011 JP
(JA) 機能性素材含有マスク
Abstract: front page image
(EN)[Problem] The purpose of the present invention is to provide, etc., a surgical mask with sufficient antibacterial properties, by uniformly manifesting on the surface of nanofibers a functional material with antibacterial and antiviral properties. [Solution] Achieved by a functional material-containing mask that is characterized by comprising nanofibers of 1-2,000 nm diameter and by including: at least one base polymer selected from a group comprising PVA, polylactic acid, fibroin, chitosan, chitin, nylon 6, nylon 6,6, nylon 9T, nylon 610, polyamide, polystyrene, polyacrylonitrile, polyethylene terephthalate, polyvinyl chloride, polyurethane, polyester, zein, collagen, and methylmethoxylated nylon; and at least one functional substance selected from a group comprising catechin polyphenols, polyphenols derived from persimmon tannins , grape seed polyphenols, soybean polyphenols, lemon peel polyphenols, coffee polyphenols, phenyl carboxylic acid, ellagic acid, and coumarin.
(FR)La présente invention concerne un masque chirurgical avec des propriétés antibactériennes suffisantes grâce à l'application uniforme sur la surface de nanofibres d'un matériau fonctionnel avec des propriétés antibactériennes et antivirales. Le masque contenant un matériau fonctionnel est caractérisé en ce qu'il contient des nanofibres d'un diamètre entre 1 et 2000 nm et : au moins un polymère de base choisi dans le groupe suivant : PVA, acide polylactique, fibroïne, chitosane, chitine, nylon 6, nylon 6-6, nylon 9T, nylon 610, polyamide, polystyrène, polyacrylonitrile, téréphtalate de polyéthylène, chlorure de polyvinyle, polyuréthane, polyester, zéine, collagène et nylon méthylméthoxylé ; et au moins une substance fonctionnelle choisie dans le groupe suivant : polyphénols cathéchiques, polyphénols dérivés des tanins de kaki, polyphénols de pépins de raisin, polyphénols de soja, polyphénols d'écorce de citron, polyphénols de café, acide phényl-carboxylique, acide éllagique et coumarine.
(JA)【課題】 本発明の目的は、抗菌性・抗ウイルス性を備えた機能性素材をナノファイバーの表面に均一に発現させることにより、十分な抗菌性を備えたサージカルマスクを提供すること等を目的とする。 【解決手段】 PVA、ポリ乳酸、フィブロイン、キトサン、キチン、ナイロン6、ナイロン6,6、ナイロン9T、ナイロン610、ポリアミド、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリウレタン、ポリエステル、ツェイン、コラーゲン、メチルメトキシ化ナイロンからなる群から選択される少なくとも一つのベースポリマーと、カテキンポリフェノール類、柿渋ポリフェノール類、ブドウ種子ポリフェノール類、大豆ポリフェノール類、レモン果皮ポリフェノール類、コーヒーポリフェノール類、フェニルカルボン酸、エラグ酸、クマリンからなる群から選択される少なくとも一つの機能性物質とを含み、1nm~2000nmの径を備えたナノファイバーを備えたことを特徴とする機能性素材含有マスクによって達成される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)