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1. (WO2012090950) PLANT HAVING IMPROVED RESISTIVITY OR SENSITIVITY TO 4-HPPD INHIBITOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/090950    International Application No.:    PCT/JP2011/080105
Publication Date: 05.07.2012 International Filing Date: 26.12.2011
IPC:
C12N 15/29 (2006.01), C12N 15/82 (2006.01), A01H 1/00 (2006.01), A01H 5/00 (2006.01), C12N 5/10 (2006.01), C12Q 1/68 (2006.01)
Applicants: Incorporated Administrative Agency National Agriculture and Food Research Organization [JP/JP]; 3-1-1, Kannondai, Tsukuba-shi, Ibaraki 3058517 (JP) (BR, JP only).
Toyama Prefecture [JP/JP]; 1-7, Shin-Sougawa, Toyama-shi, Toyama 9308501 (JP) (BR, JP only).
SDS Biotech K.K. [JP/JP]; 1-1-5, Higashi-Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo 1030004 (JP) (For All Designated States Except US).
KATO Hiroshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MAEDA Hideo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SUNOHARA Yoshihiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ANDO Ikuo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OSHIMA Masahiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KAWATA Motoshige [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YOSHIDA Hitoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HIROSE Sakiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KAWAGISHI Makiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TANIGUCHI Yojiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MURATA Kazumasa [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MAEDA Hiroaki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YAMADA Yuji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SEKINO Keisuke [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YAMAZAKI Akihiko [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KATO Hiroshi; (JP).
MAEDA Hideo; (JP).
SUNOHARA Yoshihiro; (JP).
ANDO Ikuo; (JP).
OSHIMA Masahiro; (JP).
KAWATA Motoshige; (JP).
YOSHIDA Hitoshi; (JP).
HIROSE Sakiko; (JP).
KAWAGISHI Makiko; (JP).
TANIGUCHI Yojiro; (JP).
MURATA Kazumasa; (JP).
MAEDA Hiroaki; (JP).
YAMADA Yuji; (JP).
SEKINO Keisuke; (JP).
YAMAZAKI Akihiko; (JP)
Agent: CENTCREST IP ATTORNEYS; Kimpodo Bldg. 9th Floor, 2-8-21, Kyobashi, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Priority Data:
2010-293451 28.12.2010 JP
Title (EN) PLANT HAVING IMPROVED RESISTIVITY OR SENSITIVITY TO 4-HPPD INHIBITOR
(FR) PLANTE AYANT UNE RÉSISTANCE OU SENSIBILITÉ AMÉLIORÉE À UN INHIBITEUR DE 4-HPPD
(JA) 4-HPPD阻害剤に対する抵抗性又は感受性が高められた植物
Abstract: front page image
(EN)A 4-HPPD inhibitor-resistant gene is identified as a gene (HIS1 gene) which is estimated as an iron-/ascorbic acid-dependent oxidoreductase gene located on the short arm of chromosome-2 of a rice plant, by carrying out QTL analysis using a 4-HPPD inhibitor-sensitive rice plant and a 4-HPPD inhibitor-resistant rice plant or the like. It is also found that a homologous gene (HSL1 gene) to the HIS1 gene is located on chromosome-6 of a rice plant. It is found that a plant having improved resistivity or sensitivity to a 4-HPPD inhibitor can be produced with high efficiency and the resistivity or sensitivity of a plant to a 4-HPPD inhibitor can be determined with high efficiency using the aforementioned genes.
(FR)Selon la présente invention, un gène résistant à un inhibiteur de 4-HPPD est identifié en tant que gène (gène HIS1) qui est estimé comme étant un gène d'oxydoréductase fer/acide ascorbique-dépendant situé sur le bras court du chromosome 2 d'une plante de riz, en effectuant une analyse QTL en utilisant une plante de riz sensible à un inhibiteur de 4-HPPD et une plante de riz résistante à un inhibiteur de 4-HPPD ou similaire. Il est également observé qu'un gène homologue (gène HSL1) au gène HIS1 est situé sur le chromosome 6 d'une plante de riz. Il est observé qu'une plante ayant une résistance ou sensibilité améliorée à un inhibiteur de 4-HPPD peut être produite avec une efficacité élevée et la résistivité ou sensibilité d'une plante à un inhibiteur de 4-HPPD peut être déterminée avec une efficacité élevée en utilisant les gènes mentionnés ci-dessus.
(JA) 4-HPPD阻害剤感受性イネと4-HPPD阻害剤抵抗性イネとを用いたQTL解析等により、4-HPPD阻害剤抵抗性遺伝子が、イネの第2染色体短腕に座乗する鉄・アスコルビン酸依存性酸化還元酵素遺伝子と推定される遺伝子(HIS1遺伝子)であることを同定した。さらに、HIS1遺伝子との相同遺伝子(HSL1遺伝子)が、イネの第6染色体に座乗していることも明らかにした。そして、これら遺伝子を利用して、効率的に、4-HPPD阻害剤に対する抵抗性又は感受性が高められた植物体を作出すること、および植物における4-HPPD阻害剤に対する抵抗性又は感受性を判定することが可能であることを見出した。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)