WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2012090772) DEPOSITION DEVICE, CUTTING TOOL, AND METHOD FOR COLLECTING VAPOR DEPOSITION MATERIAL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/090772    International Application No.:    PCT/JP2011/079442
Publication Date: 05.07.2012 International Filing Date: 20.12.2011
IPC:
C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/00 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
Applicants: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (For All Designated States Except US).
SONODA, Tohru; (For US Only).
KAWATO, Shinichi; (For US Only).
INOUE, Satoshi; (For US Only).
HASHIMOTO, Satoshi; (For US Only)
Inventors: SONODA, Tohru; .
KAWATO, Shinichi; .
INOUE, Satoshi; .
HASHIMOTO, Satoshi;
Agent: HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041 (JP)
Priority Data:
2010-291200 27.12.2010 JP
Title (EN) DEPOSITION DEVICE, CUTTING TOOL, AND METHOD FOR COLLECTING VAPOR DEPOSITION MATERIAL
(FR) DISPOSITIF DE DÉPÔT, OUTIL DE COUPE ET PROCÉDÉ DE COLLECTE DE MATÉRIAU DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着装置、削具および蒸着材料の回収方法
Abstract: front page image
(EN)In a vacuum chamber (10): a deposition material housing unit (19) is set to be within a temperature region in which the deposition material housed in the deposition material housing unit (19) does not dissolve and in which a predetermined deposition speed can be obtained; the deposition particles released in a first direction from the deposition material housing unit (19) during a first period are deposited onto a substrate (60); the deposition particles released in a second direction that is different from the aforementioned first direction from the deposition material housing unit (19) during the aforementioned first period or the deposition particles released from the deposition material housing unit (19) during a second period that is different from the aforementioned first period are deposited onto a shutter (40) or a deposition prevention plate (30) capable of being detached from a vacuum deposition device (1); and a layer (3) formed from a material that does not have a melting point and sublimation point below the maximum temperature in the abovementioned temperature region is disposed on at least the surface of the deposition prevention plate (30) and shutter (40), the aforementioned surface being deposited with deposition particles.
(FR)L'invention concerne une unité de logement de matériau de dépôt (19), disposée dans une chambre sous vide (10), réglée dans une région de température dans laquelle ledit matériau de dépôt (19) ne se dissout pas et dans laquelle il est possible d'obtenir une vitesse de dépôt prédéterminée. Les particules de dépôt libérées dans un premier sens à partir de l'unité de logement de matériau de dépôt (19) pendant une première durée sont déposées sur un substrat (60); et les particules de dépôt libérées dans un second sens différent du premier sens précité à partir de l'unité de logement de matériau de dépôt (19) pendant la première durée ou les particules de dépôt libérées à partir de l'unité de logement de matériau de dépôt (19) pendant une seconde durée différente de la première durée sont déposées sur un rideau (40) ou sur une plaque de prévention de dépôt (30) pouvant être détachée d'un dispositif de dépôt sous vide (1). Une couche (3) formée à partir d'un matériau qui ne présente pas de point de fusion et de point de sublimation en-dessous de la température maximum de la région de température précitée est disposée au moins sur la surface de la plaque de prévention de dépôt (30) et du rideau (40), des particules de dépôt étant déposées sur la surface précitée.
(JA) 真空チャンバ(10)において、蒸着材料収納部(19)は、蒸着材料収納部(19)に収納されている蒸着材料が分解せず、かつ、所定の蒸着速度を得られる温度領域となるように設定され、蒸着材料収納部(19)から第1の期間中、第1の方向に放出される蒸着粒子は、基板(60)上に蒸着され、蒸着材料収納部(19)から上記第1の期間中、上記第1の方向とは異なる第2の方向に放出される蒸着粒子または、上記第1の期間とは異なる第2の期間中、蒸着材料収納部(19)から放出される蒸着粒子は、真空蒸着装置1から取り外しできる防着板(30)やシャッタ(40)に蒸着され、防着板(30)やシャッタ(40)において、少なくとも上記蒸着粒子が蒸着される面には、上記温度領域における最高温度以下においては、融点および昇華点を有さない材料からなる層(3)が設けられている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)