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1. (WO2012090597) METHOD FOR PRODUCING GLASS SUBSTRATE FOR RECORDING MEDIUM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/090597    International Application No.:    PCT/JP2011/075965
Publication Date: 05.07.2012 International Filing Date: 10.11.2011
IPC:
G11B 5/84 (2006.01), B24B 1/00 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01), C03C 19/00 (2006.01), C03C 23/00 (2006.01)
Applicants: Konica Minolta, Inc. [JP/JP]; 2-7-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015 (JP) (For All Designated States Except US).
SHIMAZU, Noriko [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SHIMAZU, Noriko; (JP)
Agent: Fukami Patent Office, p.c.; Nakanoshima Central Tower, 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Priority Data:
2010-292327 28.12.2010 JP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING GLASS SUBSTRATE FOR RECORDING MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT EN VERRE POUR SUPPORT D'ENREGISTREMENT
(JA) 記録媒体用ガラス基板を製造する方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is a method for producing a glass substrate that is for a recording medium, it being easy to remove colloidal silica (13) adhered to a glass substrate precursor (12) and difficult for colloidal silica (13) to re-adhere to the end surfaces of the glass substrate precursor (12). The method for producing a glass substrate for a recording medium uses a glass substrate precursor (12) and is characterized by: containing a step for polishing the front and rear surfaces of the glass substrate precursor (12) using a polishing liquid containing colloidal silica (13), and a step for cleaning the glass substrate precursor (12) by means of causing the glass substrate precursor (12) to be immersed in a cleaning liquid (10) using a cleaning carrier (11); and in said cleaning step, when the zeta potential of the colloidal silica (13) is ζSi, the zeta potential of the cleaning carrier (11) is ζcarrier, and the zeta potential of the glass substrate precursor (12) is ζsub, each of ζSi, ζcarrier, and ζsub being less than 0 mV and ζsub being no greater than ζcarrier.
(FR)L'invention concerne un procédé de production de substrat en verre pour support d'enregistrement sur lequel il est facile d'éliminer la silice colloïdale (13) qui a adhéré à un précurseur de substrat en verre (12), ladite silice colloïdale (13) pouvant difficilement réadhérer aux surfaces d'extrémité dudit précurseur de substrat en verre (12). Le procédé de production de substrat en verre pour support d'enregistrement met en œuvre un précurseur de substrat en verre (12), et est caractérisé en ce qu'il comprend une étape de polissage des surfaces avant et arrière du précurseur de substrat en verre (12) au moyen d'un liquide de polissage contenant de la silice colloïdale (13), et une étape de nettoyage du précurseur de substrat en verre (12) par immersion dudit précurseur de substrat en verre (12) dans un liquide de nettoyage (10) au moyen d'un support de nettoyage (11). Dans l'étape de nettoyage, lorsque le potentiel zêta de la silice colloïdale (13) est ζSi, le potentiel zêta du support de nettoyage (11) est ζcarrier, et le potentiel zéta du précurseur de substrat en verre (12) est ζsub, chacun de ζSi, ζcarrier et ζsub étant inférieur à 0 mV et ζsub étant inférieur ou égal à ζcarrier.
(JA) ガラス基板前駆体(12)に付着したコロイダルシリカ(13)を簡便に取り除き、かつガラス基板前駆体(12)の端面にコロイダルシリカ(13)が再付着しにくい記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。本発明の記録媒体用ガラス基板を製造する方法は、ガラス基板前駆体(12)を用いるものであって、ガラス基板前駆体(12)の表裏面をコロイダルシリカ(13)を含む研磨液を用いて研磨する工程と、ガラス基板前駆体(12)を洗浄キャリア(11)を用いて洗浄液(10)に浸漬させることにより洗浄する工程とを含み、該洗浄する工程において、コロイダルシリカ(13)のゼータ電位をζSiとし、洗浄キャリア(11)のゼータ電位をζキャリアとし、ガラス基板前駆体(12)のゼータ電位をζsubとすると、ζSi、ζキャリア、およびζsubはいずれも、0mV未満であり、かつζsubは、ζキャリア以下であることを特徴とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)