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1. (WO2012090465) REFERENCE MEMBER FOR CORRECTION, PROCESS FOR PRODUCING SAME, AND SCANNING ELECTRON MICROSCOPE USING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/090465    International Application No.:    PCT/JP2011/007245
Publication Date: 05.07.2012 International Filing Date: 26.12.2011
IPC:
G01B 15/00 (2006.01)
Applicants: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (For All Designated States Except US).
NAKAYAMA, Yoshinori [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TASE, Takashi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YAMAMOTO, Jiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
INOUE, Osamu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NAKAYAMA, Yoshinori; (JP).
TASE, Takashi; (JP).
YAMAMOTO, Jiro; (JP).
INOUE, Osamu; (JP)
Agent: INOUE, Manabu; c/o HITACHI, LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
Priority Data:
2010-291517 28.12.2010 JP
Title (EN) REFERENCE MEMBER FOR CORRECTION, PROCESS FOR PRODUCING SAME, AND SCANNING ELECTRON MICROSCOPE USING SAME
(FR) ÉLÉMENT DE RÉFÉRENCE POUR EFFECTUER UNE CORRECTION, SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION ET MICROSCOPE ÉLECTRONIQUE À BALAYAGE L'UTILISANT
(JA) 校正用標準部材およびその作製方法並びにそれを用いた走査電子顕微鏡
Abstract: front page image
(EN)Provided is a reference member which has, on the same plane, a cross-section of a multilayered film comprising alternately superposed different materials, a plurality of first mark patterns which have been disposed parallel to the multilayered-film cross-section through a first silicon layer, at least a pair of second mark patterns which have been disposed on the reverse side of the multilayered-film cross-section from the first mark patterns and parallel to the multilayered-film cross-section through a second silicon layer, which is thicker than the first silicon layer, and silicon layers respectively disposed on the opposite sides of the first mark patterns and the second mark patterns to the multilayered-film cross-section. With the reference member, magnification correction in an electron microscope is automatically and stably conducted with high accuracy.
(FR)La présente invention concerne un élément de référence comprenant, sur le même plan, une section transversale d'un film multicouche constitué de différents matériaux superposés en alternance, une pluralité de premiers motifs de repérage parallèle à la section du film multicouche et traversant une première couche de silicium, au moins une paire de seconds motifs de repérage parallèle à la section du film multicouche, se trouvant de l'autre côté de la section du film multicouche par rapport aux premiers motifs de repérage et traversant une seconde couche de silicium plus épaisse que la première couche de silicium, et des couches de silicium disposées respectivement sur les côtés opposés des premiers motifs de repérage et des seconds motifs de repérage sur la section du film multicouche. L'élément de référence permet de corriger automatiquement, de manière stable et avec une grande précision le grossissement d'un microscope électronique.
(JA) 夫々異なる材料を交互に積層させた多層膜断面と、第一のシリコン層を挟み、前記多層膜断面と平行に配置される、複数の第一のマークパターンと、前記多層膜断面に対して、前記第一のマークパターンとは反対側に前記第一のシリコン層よりも厚さの厚い第二のシリコン層を挟んで、前記多層膜断面と平行に少なくとも一対の第二のマークパターンと、前記多層膜断面に対して第一のマークパターンおよび前記第二のマークパターンの外側にシリコン層とを同一面に有し、電子顕微鏡で用いられる倍率校正を自動で安定かつ高精度で行う標準部材を提供する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)