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Pub. No.:    WO/2012/090371    International Application No.:    PCT/JP2011/006129
Publication Date: 05.07.2012 International Filing Date: 02.11.2011
G01N 21/956 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (For All Designated States Except US).
ITO, Masaaki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NISHIYAMA, Hidetoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
JINGU, Takahiro [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: ITO, Masaaki; (JP).
NISHIYAMA, Hidetoshi; (JP).
JINGU, Takahiro; (JP)
Agent: INOUE, Manabu; c/o HITACHI,LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
Priority Data:
2010-289105 27.12.2010 JP
(JA) 検査装置
Abstract: front page image
(EN)Because with miniaturization, fatal defect signal strength falls, in a defect examination device, to ensure a sufficient SN ratio it is necessary to reduce wafer noise caused by scattered light. Pattern edge roughness and surface roughness, which cause scattering, are spread over the entire wafer. Thus, it was discovered that reducing illumination regions is effective for reducing noise. More specifically, the present invention finds that making the illumination regions spot shaped and reducing the dimensions of the spot beams is effective. A plurality of temporally and spatially divided spot beams are radiated onto a sample.
(FR)A cause de la miniaturisation, la puissance du signal des défauts inéluctables chute, dans un dispositif d'examen des défauts, afin de garantir un rapport signal sur bruit suffisant, rendant nécessaire la réduction du bruit lié aux plaquettes provoqué par la lumière diffusée. La rugosité des bords du motif et la rugosité de la surface, lesquelles provoquent la diffusion de la lumière, sont présentes sur l'ensemble de la plaquette. Ainsi, il s'est avéré que la diminution du nombre de régions éclairées entraînait une diminution efficace du bruit. Plus particulièrement, la présente invention a révélé que donner une forme aux régions ponctuelles illuminées et réduire les dimensions des faisceaux ponctuels était efficace. Une pluralité de faisceaux ponctuels divisés dans le temps et l'espace sont dirigés sur un échantillon.
(JA) 欠陥検査装置では、微細化につれて致命欠陥の信号強度が減少するので、SN比を確保するには、ウェハの散乱光によるノイズを低減する必要がある。散乱源であるパターンエッジラフネスや表面ラフネスは、ウェハ全体に広がっている。そのため、ノイズを低減するには、照明領域を縮小するのが有効であることを本発明では見出した。すなわち、照明領域をスポット状とし、スポットビームの寸法を縮小するのが有効であることを本発明では見出した。 時間的・空間的に分割した複数のスポットビームを試料に照射する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)