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1. (WO2012090352) PATTERNED GLASS SUBSTRATE, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND TRANSFER FILM USED IN MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/090352    International Application No.:    PCT/JP2011/004801
Publication Date: 05.07.2012 International Filing Date: 29.08.2011
IPC:
H05K 3/20 (2006.01), B60J 1/00 (2006.01), C03C 17/34 (2006.01), H01Q 1/32 (2006.01), H05K 1/03 (2006.01)
Applicants: NIPPON SHEET GLASS CO., LTD. [JP/JP]; 5-27, Mita 3-chome, Minato-ku, Tokyo 1086321 (JP) (For All Designated States Except US).
TOPPAN TDK LABEL CO., Ltd. [JP/JP]; 1-5-1 Taito, Taito-ku, Tokyo 1100016 (JP) (For All Designated States Except US).
YANO, Yota [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OGAWA, Hisashi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TOKUDA, Haruka [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KOIKE, Yosuke [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OSAWA, Kenta [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SHINOZAKI, Hideaki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: YANO, Yota; (JP).
OGAWA, Hisashi; (JP).
TOKUDA, Haruka; (JP).
KOIKE, Yosuke; (JP).
OSAWA, Kenta; (JP).
SHINOZAKI, Hideaki; (JP)
Agent: OSHIMA & PARTNERS; 2-20, Kanda-Jimbocho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010051 (JP)
Priority Data:
2010-294183 28.12.2010 JP
2010-294194 28.12.2010 JP
2010-294207 28.12.2010 JP
Title (EN) PATTERNED GLASS SUBSTRATE, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND TRANSFER FILM USED IN MANUFACTURING METHOD
(FR) SUBSTRAT EN VERRE À MOTIFS, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET FILM DE TRANSFERT UTILISÉ DANS UN PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) パターン付きガラス基板、その製造方法及びその製造方法に使用する転写フィルム
Abstract: front page image
(EN)Provided are: a patterned glass substrate having a conductive pattern layer which does not stand out even on a light-shielding layer, and which is well bonded with the light-shielding layer; and a method for manufacturing the patterned glass substrate. The patterned glass substrate (1) is characterized by containing: a glass substrate (3); a light-shielding layer (6) that contains a pigment and a glass component, and that is sintered on the surface of the glass substrate; and a conductive pattern layer (8) that is sintered on the light-shielding layer. The patterned glass substrate (1) is further characterized in that the conductive pattern layer comprises: a conductive layer containing a glass component; and a covering layer (12) that contains a pigment and a glass component, and envelops the conductive layer.
(FR)L'invention porte sur : un substrat en verre à motifs ayant une couche de motifs conducteurs qui ne fait pas saillie, même sur une couche d'arrêt de la lumière, et qui est bien fixé à la couche d'arrêt de la lumière ; et un procédé pour fabriquer le substrat en verre à motifs. Le substrat en verre à motifs (1) est caractérisé en ce qu'il contient : un substrat en verre (3) ; une couche d'arrêt de la lumière (6) qui contient un pigment et un composant de verre, et qui est frittée sur la surface du substrat en verre ; et une couche de motifs conducteurs (8) qui est frittée sur la couche d'arrêt de la lumière. Le substrat en verre à motifs (1) est de plus caractérisé en ce que la couche de motifs conducteurs comprend : une couche conductrice contenant un composant de verre ; et une couche de revêtement (12) qui contient un pigment et un composant de verre, et qui enveloppe la couche conductrice.
(JA)遮光層上においても目立つことなく、かつ遮光層と良好に結合した導電性パターン層を有するパターン付きガラス基板及びその製造方法を提供する。パターン付きガラス基板(1)であって、ガラス基板(3)と、顔料及びガラス成分を含み、ガラス基板の表面に焼結された遮光層(6)と、遮光層上に焼結された導電性パターン層(8)とを含み、前記導電性パターン層が、ガラス成分を含む導電層と、顔料及びガラス成分を含み、前記導電層を包囲する被覆層(12)とを有することを特徴とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)