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1. (WO2012088887) METHOD AND DEVICE FOR PREPARING HIGH TEMPERATURE WATER VAPOUR RICH IN ACTIVE PARTICLES USING PLASMA
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/088887    International Application No.:    PCT/CN2011/078242
Publication Date: 05.07.2012 International Filing Date: 11.08.2011
IPC:
B01J 19/08 (2006.01), B01F 5/04 (2006.01), C10J 3/00 (2006.01)
Applicants: WUHAN KAIDI ENGINEERING TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTECO., LTD. [CN/CN]; T1 Jiangxia Avenue, Miaoshan Development Zone Jiangxia District, Wuhan, Hubei 430212 (CN) (For All Designated States Except US).
CHEN, Yilong [CN/CN]; (CN) (For US Only).
ZHANG, Yanfeng [CN/CN]; (CN) (For US Only).
CAO, Minxia [CN/CN]; (CN) (For US Only).
LI, Hong [CN/CN]; (CN) (For US Only)
Inventors: CHEN, Yilong; (CN).
ZHANG, Yanfeng; (CN).
CAO, Minxia; (CN).
LI, Hong; (CN)
Agent: WUHAN KAIYUAN INTELLECTUAL PROPERTY AGENT LTD.; 14th Floor Yuanyang Building, No.145, Xianggang Road, Jiangan District Wuhan, Hubei 430015 (CN)
Priority Data:
201010617855.0 31.12.2010 CN
Title (EN) METHOD AND DEVICE FOR PREPARING HIGH TEMPERATURE WATER VAPOUR RICH IN ACTIVE PARTICLES USING PLASMA
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR LA PRÉPARATION DE VAPEUR D'EAU À HAUTE TEMPÉRATURE RICHE EN PARTICULES ACTIVES UTILISANT UN PLASMA
(ZH) 用等离子体制取高温、富含活性粒子水蒸汽的方法及装置
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a method and device for preparing a high temperature water vapour rich in active particles using plasma, the device comprising a plasma generator (1) and a high temperature vapour generator (2), wherein the middle of one end of the high temperature vapour generator (2) is provided with a high temperature plasma inlet (4) in communication with an outlet (1b) of the plasma generator (1); the plasma generator (1) has an inlet (1a) for non-oxidizing gases; the high temperature plasma inlet (4) is surrounded by an annular vapour inlet (3d), which annular vapour inlet (3d) has rotary guide blades (7) mounted therein. The casing of the high temperature vapour generator (2) has a shape of stepped increasing stages divided into 1-4 stage(s), and an annular narrow orifice (3a, 3b, 3c) for vapour entrance is provided between two adjacent casing parts at each stage, with the annular narrow orifice (3a, 3b, 3c) connected to a vapour pressure feeding device (3). The method comprises the steps of: spraying the prepared vapour and the high temperature plasma working materials ionized by the plasma generator (1) into the high temperature vapour generator (2) through their respective inlets, intensively mixing the high temperature vapour and the high temperature plasma, and heating and activating the vapour so as to form the vapour with active particles.
(FR)L'invention porte sur un procédé et un dispositif pour la préparation d'une vapeur d'eau à haute température riche en particules actives utilisant un plasma, le dispositif comprenant une générateur de plasma (1) et un générateur de vapeur à haute température (2), le milieu d'une extrémité du générateur de vapeur à haute température (2) étant doté d'une entrée de plasma à haute température (4) en communication avec une sortie (1b) du générateur de plasma (1); le générateur de plasma (1) ayant une entrée (1a) pour des gaz non oxydants; l'entrée de plasma à haute température (4) étant entourée d'une entrée de vapeur annulaire (3d), laquelle entrée de vapeur annulaire (3d) a des lames de guidage rotatives (7) montées dans celle-ci. L'enveloppe du générateur de vapeur à haute température (2) a une forme étagée augmentant de façon échelonnée répartie en 1-4 étages et un étroit orifice annulaire (3a, 3b, 3c) pour l'entrée de vapeur est disposé entre deux parties d'enveloppe adjacentes à chaque étage, l'étroit orifice annulaire (3a, 3b, 3c) étant raccordé à un dispositif d'alimentation en vapeur sous pression (3). Le procédé comprend les étapes consistant à : pulvériser la vapeur préparée et les matières de travail sous forme de plasma à haute température ionisées par le générateur de plasma (1) dans le générateur de vapeur à haute température (2) par leurs entrées respectives, mélanger intensivement la vapeur à haute température et le plasma à haute température et chauffer et activer la vapeur afin de former la vapeur comprenant des particules actives.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)