(EN) A method and a system (100) for manufacturing a device using a shadow mask technology production line are provided. By this method, a material deposition in a deposition vacuum chamber (101A,101B,……101N-1,101N) is completed firstly, which includes the following steps: A, orienting a shadow mask board (11) accurately on a first region of a substrate (10) in accordance with an operational relationship between the shadow mask board (11) completely located in the deposition vacuum chamber (101A,101B,……101N-1,101N) and a deposition material source (14); B, depositing the material by vacuum evaporation on the first region of the substrate (10) to form a pattern; C, orienting the shadow mask board (11) and the deposition material source (14) accurately on a second region of the substrate (10) by gear; D, depositing the material by vacuum evaporation on the second region of the substrate (10) to form a pattern and to form a three-dimensional overlap between materials; according to a design, repeating step C and step D to complete compositions and connections of components; next, after annealing in an annealing vacuum chamber (102), testing in a test vacuum chamber (103), cutting in a cutting vacuum chamber (104) and assembling in an assembling vacuum chamber (105) in turn, prototyping and manufacturing of full components are achieved.
(FR) L'invention concerne un procédé et un système (100) servant à fabriquer un dispositif utilisant une ligne de production à technologie de masque d'ombrage. Par ce procédé, une déposition de matériau dans une chambre de déposition sous vide (101A, 101B,… 101N-1, 101N) est d'abord réalisée, selon les étapes consistant : A, à orienter une carte de masque d'ombrage (11) avec précision sur une première zone d'un substrat (10) conformément à une relation opérationnelle entre la carte de masque d'ombrage (11) située complètement dans la chambre de déposition sous vide (101A, 101B,… 101N-1, 101N) et une source de matériau de déposition (14) ; B, à déposer le matériau par évaporation sous vide sur la première zone du substrat (10) pour former un motif ; C, à orienter la carte de masque d'ombrage (11) et la source de matériau de déposition (14) avec précision sur une deuxième zone du substrat (10) par engrenages ; D, à déposer le matériau par évaporation sous vide sur la deuxième zone du substrat (10) pour former un motif et pour former un chevauchement tridimensionnel entre les matériaux ; selon la conception, à répéter les étapes C et D pour achever les compositions et connexions des composants ; ensuite, après un recuit dans une chambre de recuit sous vide (102), à essayer dans une chambre d'essai sous vide (103), à découper dans une chambre de découpage sous vide (104) et à assembler dans une chambre d'assemblage sous vide (105) dans cet ordre, et le prototypage et la fabrication des composants complets sont réalisés.