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1. WO2012056621 - METHOD FOR PURIFYING CHLOROSILANES

Publication Number WO/2012/056621
Publication Date 03.05.2012
International Application No. PCT/JP2011/004937
International Filing Date 02.09.2011
IPC
C01B 33/107 2006.01
CCHEMISTRY; METALLURGY
01INORGANIC CHEMISTRY
BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF
33Silicon; Compounds thereof
08Compounds containing halogen
107Halogenated silanes
CPC
C01B 33/1071
CCHEMISTRY; METALLURGY
01INORGANIC CHEMISTRY
BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; ; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
33Silicon; Compounds thereof
08Compounds containing halogen
107Halogenated silanes
1071Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof
C01B 33/10763
CCHEMISTRY; METALLURGY
01INORGANIC CHEMISTRY
BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; ; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
33Silicon; Compounds thereof
08Compounds containing halogen
107Halogenated silanes
1071Tetrachloride, trichlorosilane or silicochloroform, dichlorosilane, monochlorosilane or mixtures thereof
10742prepared by hydrochlorination of silicon or of a silicon-containing material
10757with the preferential formation of trichlorosilane
10763from silicon
C01B 33/10778
CCHEMISTRY; METALLURGY
01INORGANIC CHEMISTRY
BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; ; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
33Silicon; Compounds thereof
08Compounds containing halogen
107Halogenated silanes
10778Purification
C01B 33/10794
CCHEMISTRY; METALLURGY
01INORGANIC CHEMISTRY
BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; ; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
33Silicon; Compounds thereof
08Compounds containing halogen
107Halogenated silanes
10778Purification
10794by forming addition compounds or complexes, the reactant being possibly contained in an adsorbent
Applicants
  • 信越化学工業株式会社 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 長谷川 正幸 HASEGAWA, Masayuki [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 殿村 洋一 TONOMURA, Yoichi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 久保田 透 KUBOTA, Tohru [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 青山 武 AOYAMA, Takeshi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 田中 秀二 TANAKA, Shuji [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventors
  • 長谷川 正幸 HASEGAWA, Masayuki
  • 殿村 洋一 TONOMURA, Yoichi
  • 久保田 透 KUBOTA, Tohru
  • 青山 武 AOYAMA, Takeshi
  • 田中 秀二 TANAKA, Shuji
Agents
  • 大野 聖二 OHNO, Seiji
Priority Data
2010-24028527.10.2010JP
Publication Language Japanese (JA)
Filing Language Japanese (JA)
Designated States
Title
(EN) METHOD FOR PURIFYING CHLOROSILANES
(FR) PROCÉDÉ POUR LA PURIFICATION DE CHLOROSILANES
(JA) クロロシラン類の精製方法
Abstract
(EN)
This method for purifying chlorosilanes comprises at least three steps among a hydrogenation step (101) and/or a chlorination step (102), an impurity conversion step (103), and a purification step (104). In the impurity conversion step (103), an aldehyde compound represented by general formula Ar-R-CHO (Ar is a substituted or unsubstituted aryl group, and R is an organic group having at least two carbon atoms) is added, and donor impurities and acceptor impurities contained in a chlorosilane distillate are converted into high boilers. The chlorosilane distillate after the donor impurities and acceptor impurities have been converted into high boilers is sent to the purification step (104). In the purification step (104), using distillation columns or the like, high purity chlorosilanes are recovered outside of the system from the top of the column to obtain high purity chlorosilanes from which donor impurities and acceptor impurities have been thoroughly removed. Thus, the content of the donor impurities and acceptor impurities in the chlorosilane distillate is reduced.
(FR)
L'invention porte sur un procédé pour la purification de chlorosilanes comprenant au moins trois étapes parmi une étape d'hydrogénation (101) et/ou une étape de chloration (102), une étape de conversion d'impuretés (103) et une étape de purification (104). Dans l'étape de conversion d'impuretés (103), un composé aldéhyde représenté par la formule générale Ar-R-CHO (Ar représentant un groupe aryle substitué ou non substitué et R représentant un groupe organique ayant au moins deux atomes de carbone) est ajouté et des impuretés de type donneur et des impuretés de type accepteur contenues dans un distillat de chlorosilane sont converties en composés de point d'ébullition élevé. Le distillat de chlorosilane après que les impuretés de type donneur et les impuretés de type accepteur ont été converties en composés de point d'ébullition élevé est envoyé vers l'étape de purification (104). Dans l'étape de purification (104), à l'aide de colonnes de distillation ou similaires, des chlorosilanes de haute pureté sont récupérés à l'extérieur du système à partir de la partie supérieure de la colonne pour obtenir des chlorosilanes de haute pureté dont les impuretés de type donneur et les impuretés de type accepteur ont été totalement enlevées. Ainsi, la teneur des impuretés de type donneur et des impuretés de type accepteur dans le distillat de chlorosilane est réduite.
(JA)
 本発明のクロロシラン類の精製方法は、水素化工程(101)および/または塩素化工程(102)、不純物転化工程(103)、精製工程(104)の少なくとも3つの工程を備えている。不純物転化工程(103)では、一般式Ar-R-CHO(Arは置換または未置換のアリール基、Rは炭素数2以上の有機基)で表記されるアルデヒド化合物が添加され、クロロシラン類留出物に含有されているドナー不純物およびアクセプタ不純物が高沸点物に転化される。ドナー不純物とアクセプタ不純物を高沸点物に転化させた後のクロロシラン類留出物は、精製工程(104)へと送られる。精製工程(104)では、蒸留塔などを用いることにより、塔頂部より系外に回収して、充分にドナー不純物およびアクセプタ不純物が除去された高純度のクロロシラン類を得る。これにより、クロロシラン類留出物中のドナー不純物およびアクセプタ不純物の含有量が低減する。
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