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1. (WO2012054621) A METHOD OF TRIMMING A THIN FILM RESISTOR, AND AN INTEGRATED CIRCUIT INCLUDING TRIMMABLE THIN FILM RESISTORS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/054621    International Application No.:    PCT/US2011/056909
Publication Date: 26.04.2012 International Filing Date: 19.10.2011
Chapter 2 Demand Filed:    27.04.2012    
IPC:
H01C 17/00 (2006.01), H01C 17/16 (2006.01)
Applicants: ANALOG DEVICES, INC. [US/US]; One Technology Way Norwood, MA 02062 (US) (For All Designated States Except US)
Inventors: DOWNEY, Fergus, John; (IE).
STENSON, Bernard, Patrick; (IE).
MOLYNEAUX, James, Michael; (IE)
Agent: CHRISTENSEN, Michael, R.; Knobbe, Martens, Olson & Bear, LLP 2040 Main Street, 14th Floor Irvine, CA 92614 (US)
Priority Data:
12/909,663 21.10.2010 US
Title (EN) A METHOD OF TRIMMING A THIN FILM RESISTOR, AND AN INTEGRATED CIRCUIT INCLUDING TRIMMABLE THIN FILM RESISTORS
(FR) PROCÉDÉ D'AJUSTAGE D'UNE RÉSISTANCE EN COUCHES MINCES ET CIRCUIT INTÉGRÉ COMPRENANT DES RÉSISTANCES EN COUCHES MINCES AJUSTABLES
Abstract: front page image
(EN)Apparatus and methods of trimming resistors are disclosed. In one embodiment, a method of controlling the power coefficient of resistance (PCR) of a thin film resistor (4, 6) is provided. The method includes applying a first current to the resistor so as to alter a property of the resistor, and measuring the property of the resistor. Applying the first current and measuring the property of the resistor can be repeated until the PCR of the resistor is within an acceptable tolerance of a desired value for the property of the resistor.
(FR)L'invention porte sur un appareil et sur des procédés d'ajustage de résistances. Dans un mode de réalisation, l'invention concerne un procédé de contrôle du facteur de puissance de résistance (PCR) d'une résistance en couches minces (4, 6). Le procédé comprend l'application d'un premier courant à la résistance de façon à modifier une propriété de la résistance et la mesure de la propriété de la résistance. L'application du premier courant et la mesure de la propriété de la résistance peuvent être répétées jusqu'à ce que la PCR de la résistance soit dans une tolérance acceptable de la valeur voulue pour la propriété de la résistance.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)