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1. (WO2012053650) SHAPE MEASUREMENT METHOD, AND SYSTEM THEREFOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/053650    International Application No.:    PCT/JP2011/074367
Publication Date: 26.04.2012 International Filing Date: 21.10.2011
IPC:
G01B 15/04 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (For All Designated States Except US).
SHISHIDO Chie [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TANAKA Maki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MIYAMOTO Atsushi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HAMAMATSU Akira [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YANO Manabu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SHISHIDO Chie; (JP).
TANAKA Maki; (JP).
MIYAMOTO Atsushi; (JP).
HAMAMATSU Akira; (JP).
YANO Manabu; (JP)
Agent: POLAIRE I.P.C.; 7-1, Hatchobori 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040032 (JP)
Priority Data:
2010-237315 22.10.2010 JP
Title (EN) SHAPE MEASUREMENT METHOD, AND SYSTEM THEREFOR
(FR) PROCÉDÉ DE MESURE DE FORME ET SYSTÈME ASSOCIÉ
(JA) 形状計測方法およびそのシステム
Abstract: front page image
(EN)A model based measurement method is capable of estimating a cross-sectional shape by matching various pre-created cross-sectional shapes with a library of SEM signal waveforms. The present invention provides a function for determining whether or not it is appropriate to create a model of a cross-sectional shape or a function for verifying the accuracy of estimation results to a conventional model based measurement method, wherein a solution space (predicted solution space) is obtained by matching library waveforms and is displayed before measuring the real pattern by means of model based measurement. Moreover, after the real pattern is measured by means of model based measurement, the solution space (real solution space) is obtained by matching the real waveforms with the library waveforms and is displayed.
(FR)Un procédé de mesure basé sur des modèles peut estimer une forme en section transversale en mettant en correspondance diverses formes en section transversale créées précédemment avec une bibliothèque de formes d'onde de signal de MEB. La présente invention apporte une fonction permettant de déterminer s'il convient ou non de créer un modèle d'une forme en section transversale ou une fonction permettant de vérifier l'exactitude des résultats d'estimation, venant s'ajouter à un procédé traditionnel de mesure basé sur des modèles. Selon l'invention, un espace de solutions (espace de solutions prédit) est obtenu en mettant en correspondance des formes d'onde de la bibliothèque et cet espace est affiché avant la mesure de la forme réelle au moyen d'une technique de mesure basée sur des modèles. De plus, après la mesure de la forme réelle au moyen d'une technique de mesure basée sur des modèles, l'espace de solutions (espace de solutions réel) est obtenu en mettant les formes d'onde réelles en correspondance avec les formes d'onde de la bibliothèque et cet espace est affiché.
(JA) モデルベース計測法は、予め作成した種々の断面形状に対するSEM信号波形のライブラリとのマッチングにより断面形状を推定することが可能である。本発明は、従来のモデルベース計測法に対して、断面形状のモデル化が適切か否かを判断するための機能、あるいは、推定結果の確からしさを確認する機能を提供するものであって、モデルベース計測にて実パターンの計測を行うのに先立ち、ライブラリ波形間のマッチングにより解空間(予測解空間)を求め提示する。また、モデルベース計測による実パターンの計測後に、実波形とライブラリ波形とのマッチングにより解空間(実解空間)を求め提示するようにした。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)