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1. (WO2012052881) DIFFERENTIAL PHASE-CONTRAST IMAGING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/052881    International Application No.:    PCT/IB2011/054500
Publication Date: 26.04.2012 International Filing Date: 12.10.2011
IPC:
G01N 23/04 (2006.01), G01N 23/20 (2006.01), G21K 1/06 (2006.01), A61B 6/06 (2006.01)
Applicants: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. [NL/NL]; High Tech Campus 5 NL-5656 AE Eindhoven (NL) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
PHILIPS INTELLECTUAL PROPERTY & STANDARDS GMBH [DE/DE]; Lübeckertordamm 5 20099 Hamburg (DE) (DE only).
RÖSSL, Ewald [AT/DE]; (NL) (For US Only)
Inventors: RÖSSL, Ewald; (NL)
Agent: VAN VELZEN, Maaike, M.; High Tech Campus, Building 44 NL-5656 AE Eindhoven (NL)
Priority Data:
10187976.5 19.10.2010 EP
Title (EN) DIFFERENTIAL PHASE-CONTRAST IMAGING
(FR) IMAGERIE DIFFÉRENTIELLE EN CONTRASTE DE PHASE
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to differential phase-contrast imaging, in particular to a structure of a diffraction grating, e.g. an analyzer grating and a phase grating, for X-ray differential phase-contrast imaging. In order to make better use of the X-ray radiation passing the object, a diffraction grating (14) for X-ray differential phase-contrast imaging is provided with at least one portion (24) of a first sub-area (26) and at least one portion (28) of a second sub-area (30). The first sub-area comprises a grating structure (54) with a plurality of bars (34) and gaps (36) being arranged periodically with a first grating pitch P G (38), wherein the bars are arranged such that thy change the phase and/or amplitude of an X-ray radiation and wherein the gaps are X-ray transparent. The second sub-area is X-ray transparent and wherein the at least one portion of the second sub-area provides an X-ray 1 transparent aperture (40) in the grating. Portions of the first and second sub-areas are arranged in an alternating manner in at least one direction (42).
(FR)Cette invention concerne l'imagerie différentielle en contraste de phase, en particulier, une structure de réseau de diffraction, par exemple, un réseau d'analyseur et un réseau de phase, pour la radiographie X différentielle en contraste de phase. Pour mieux exploiter le rayonnement X traversant l'objet, un réseau de diffraction (14) pour la radiographie X différentielle en contraste de phase comporte au moins une partie (24) d'une première sous-zone (26) et au moins une partie (28) d'une seconde sous-zone (30). La première sous-zone comprend une structure de réseau (54) constituée d'une pluralité de barres (34) et d'espaces (36) agencés périodiquement selon un premier pas de réseau P G (38), les barres étant agencées de manière à modifier la phase et/ou l'amplitude d'un rayonnement X et les espaces étant transparents aux rayons X. La seconde sous-zone est transparente aux rayons X et ladite au moins partie de la seconde sous-zone comporte une ouverture transparente aux rayons X 1 (40) dans le réseau. Les parties des première et seconde sous-zones sont agencées en mode alterné dans au moins une direction (42).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)