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1. (WO2012052858) ETCHING OF OXIDE MATERIALS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/052858    International Application No.:    PCT/IB2011/053625
Publication Date: 26.04.2012 International Filing Date: 16.08.2011
IPC:
H01L 21/3065 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01)
Applicants: L'AIR LIQUIDE SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE [FR/FR]; 75 Quai d'Orsay F-75007 Paris (FR) (For All Designated States Except US).
TERAMOTO, Takashi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SONOBE, Jun [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TOGE, Terukuni [JP/JP]; (JP) (For US Only).
BLASCO, Nicolas [FR/FR]; (FR) (For US Only).
CHEVREL, Henrí [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: TERAMOTO, Takashi; (JP).
SONOBE, Jun; (JP).
TOGE, Terukuni; (JP).
BLASCO, Nicolas; (FR).
CHEVREL, Henrí; (FR)
Priority Data:
61/373,952 16.08.2010 US
61/444,774 20.02.2011 US
Title (EN) ETCHING OF OXIDE MATERIALS
(FR) GRAVURE DE MATÉRIAUX D'OXYDE
Abstract: front page image
(EN)Oxide film deposits are removed from a film-forming apparatus. In the disclosed methods, a fluorine-containing gas, preferably plasma treated NF3, reacts with the oxide film deposits. The vapors of an organic compound, preferably t-butyl alcohol or acetylacetonate, react with the fluorinated oxide film deposits and generate volatile meta! species which are easily removed from the apparatus.
(FR)Selon la présente invention, les dépôts de couche d'oxyde sont supprimés d'un appareil de formation de film. Selon les procédés de la présente invention, un gaz contenant du fluor, de préférence du NF3 traité au plasma, réagit avec les dépôts de couche d'oxyde. Les vapeurs d'un composé organique, de préférence de l'alcool t-butylique ou de l'acétylacétonate, réagissent avec les dépôts de couche d'oxyde fluorés et génèrent des espèces métalliques volatiles qui sont facilement supprimées de l'appareil.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)