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1. (WO2012052302) METHOD AND APPARATUS FOR CLOSED-LOOP CONTROL OF THE ELECTRODE SEPARATION IN A VACUUM ARC FURNACE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/052302    International Application No.:    PCT/EP2011/067483
Publication Date: 26.04.2012 International Filing Date: 06.10.2011
IPC:
H05B 7/148 (2006.01)
Applicants: ALD VACUUM TECHNOLOGIES GMBH [DE/DE]; Wilhelm-Rohn-Strasse 35 63450 Hanau (DE) (For All Designated States Except US).
OEHLER, Ralf [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHOLZ, Harald [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HOFFMANN, Frank-Werner [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: OEHLER, Ralf; (DE).
SCHOLZ, Harald; (DE).
HOFFMANN, Frank-Werner; (DE)
Agent: TAPPE, Hartmut; Georg-Schlosser-Strasse 6 35390 Gießen (DE)
Priority Data:
10 2010 042 782.9 21.10.2010 DE
Title (DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR REGELUNG DES ELEKTRODENABSTANDS IN EINEM VAKUUM-LICHTBOGENOFEN
(EN) METHOD AND APPARATUS FOR CLOSED-LOOP CONTROL OF THE ELECTRODE SEPARATION IN A VACUUM ARC FURNACE
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE RÉGLAGE DE L'ÉCARTEMENT DES ÉLECTRODES DANS UN FOUR À ARC SOUS VIDE
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zur Regelung des Elektrodenabstands in einem Vakuum-Lichtbogenofen (10), wobei ein Elektrodenabstand einer Schmelzelektrode gegenüber der Oberfläche eines Schmelzgutes in Abhängigkeit einer Tropfenkurzschlussrate geregelt wird. Hierzu wird ein Histogramm (70) detektierter Tropfenkurzschlüsse (80) auf Basis zumindest eines Tropfenkurzschlusskriteriums (76) erstellt, das Histogramm (70) in Teilbereiche (72) unterteilt, ein charakteristischer Teilbereich (74) des Histogramms (70) zu Regelungszwecken ausgewählt und ein Elektrodenabstand auf Basis der dem ausgewählten Teilbereich (74) zuordenbaren Tropfenkurzschlüssen (80) geregelt.
(EN)The invention relates to a method and an apparatus for closed-loop control of the electrode separation in a vacuum arc furnace (10), wherein an electrode separation of a melting electrode from the surface of a melt material is subject to closed-loop control as a function of a droplet short-circuit rate. For this purpose, a histogram (70) of detected droplet short-circuits (80) is created on the basis of at least one droplet short-circuit criterion (76), the histogram (70) is subdivided into sub-areas (72), a characteristic sub-area (74) of the histogram (70) is selected for closed-loop control purposes, and an electrode separation is subjected to closed-loop control on the basis of the droplet short-circuits (80) which can be associated with the selected sub-area (74).
(FR)L'invention concerne un procédé et un dispositif de réglage de l'écartement des électrodes dans un four à arc sous vide (10), un écartement d'une électrode fusible par rapport à la surface d'une matière à fondre étant réglé en fonction d'un taux de courts-circuits provoqués par des gouttes. A cet effet, un histogramme (70) des courts-circuits provoqués par des gouttes détectés (80) est établi sur la base au moins d'un critère de courts-circuits provoqués par des gouttes (76), l'histogramme (70) est divisé en zones partielles (72), une zone partielle caractéristique (74) de l'histogramme (70) est choisie à des fins de réglage et un écartement des électrodes est réglé sur la base des courts-circuits provoqués par des gouttes (80) pouvant être associés à la zone partielle (74) choisie.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)