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1. (WO2012050966) CARBON AND CARBON/SILICON COMPOSITE NANOSTRUCTED MATERIALS AND CASTING FORMATION METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/050966    International Application No.:    PCT/US2011/053965
Publication Date: 19.04.2012 International Filing Date: 29.09.2011
IPC:
B82B 3/00 (2006.01), B82B 1/00 (2006.01), C01B 31/02 (2006.01)
Applicants: THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA [US/US]; 1111 Franklin Street 5th Floor Oakland, CA 94607-5200 (US) (For All Designated States Except US).
SAILOR, Michael, J. [US/US]; (US) (For US Only).
KELLY, Timothy, L. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: SAILOR, Michael, J.; (US).
KELLY, Timothy, L.; (US)
Agent: FALLON, Steven, P.; Greer, Burns & Crain LTD. 300 South Wacker Drive, Suite 2500 Chicago, IL 60606 (US)
Priority Data:
61/387,566 29.09.2010 US
Title (EN) CARBON AND CARBON/SILICON COMPOSITE NANOSTRUCTED MATERIALS AND CASTING FORMATION METHOD
(FR) NANOSTRUCTURES DE CARBONE ET DE COMPOSITES CARBONE/SILICIUM ET PROCÉDÉ DE MOULAGE ASSOCIÉ
Abstract: front page image
(EN)The invention provides nanostructure composite porous silicon and carbon materials, and also provides carbon nanofiber arrays having a photonic response in the form of films or particles. Composite materials or carbon nanofiber arrays of the invention are produced by a templating method of the invention, and the resultant nanomaterials have a predetermined photonic response determined by the pattern in the porous silicon template, which is determined by etching conditions for forming the porous silicon. Example nanostructures include rugate filters, single layer structures and double layer structures. In a preferred method of the invention, a carbon precursor is introduced into the pores of a porous silicon film. Carbon is then formed from the carbon precursor. In a preferred method of the invention, liquid carbon-containing polymer precursor is introduced into the pores of an porous silicon film. The precursor is thermally polymerized to form a carbon-containing polymer in the pores of the porous silicon film, which is then thermally carbonized to produce the nanostructured composite material. A carbon nanofiber array is obtained by dissolving the porous silicon. A carbon nanofiber array can be maintained as a film in liquid, and particles can be formed by drying the material.
(FR)Cette invention concerne des nanostructures composites de silicium poreux et de carbone, et des réseaux de nanofibres de carbone dont la réponse photonique se présente sous forme de pellicules ou de particules. Les matériaux composites ou les réseaux de nanofibres de carbone de l'invention sont produits par un procédé de modélisation, et les nanomatériaux résultants présentent une réponse photonique prédéfinie par le motif présent dans le modèle de silicium poreux, qui est déterminé par des conditions de gravure pour obtenir le silicium poreux. Les filtres ondulants, les structures monocouches et les structures doubles couches figurent parmi les exemples de nanostructures de l'invention. Dans un procédé préféré de l'invention un précurseur du carbone est introduit dans les pores d'une pellicule de silicium poreux. Le carbone est alors formé à partir du précurseur. Dans un procédé préféré de l'invention, un précurseur polymère contenant du carbone liquide est introduit dans les pores d'une pellicule de silicium poreux. Le précurseur est polymérisé par la chaleur de manière à former un polymère carboné dans les pores de la pellicule de silicium poreux, qui est ensuite carbonisée par la chaleur pour obtenir une nanostructure composite. Un réseau de nanofibres de carbone est obtenu en dissolvant le silicium poreux. Un réseau de nanofibres de carbone peut être maintenu sous forme d'une pellicule liquide, et des particules peuvent être formées par séchage du matériau.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)