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1. (WO2012050777) ADVANCED POLY EPOXY ESTER RESIN COMPOSITIONS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/050777    International Application No.:    PCT/US2011/052672
Publication Date: 19.04.2012 International Filing Date: 22.09.2011
IPC:
C08G 59/12 (2006.01), C08G 59/18 (2006.01), C08G 59/42 (2006.01), C08G 63/137 (2006.01), C08G 63/187 (2006.01), C08G 63/199 (2006.01), C08G 63/66 (2006.01), C08L 67/02 (2006.01)
Applicants: DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC [US/US]; 2040 Dow Center Midland, MI 48674 (US) (For All Designated States Except US).
JIN, Xin [CN/US]; (US) (For US Only).
DRUMRIGHT, Ray E. [US/US]; (US) (For US Only).
KAINZ, Bernhard [DE/DE]; (DE) (For US Only).
WHITE, Jerry E. [US/US]; (US) (For US Only).
HEFNER, Robert E. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: JIN, Xin; (US).
DRUMRIGHT, Ray E.; (US).
KAINZ, Bernhard; (DE).
WHITE, Jerry E.; (US).
HEFNER, Robert E.; (US)
Agent: WELVAERT, Bronwyn; The Dow Chemical Company Intellectual Property P.O. Box 1967 Midland, Michigan 48641 (US)
Priority Data:
61/388,072 30.09.2010 US
Title (EN) ADVANCED POLY EPOXY ESTER RESIN COMPOSITIONS
(FR) COMPOSITIONS AMÉLIORÉES DE RÉSINE DE POLY ÉPOXY ESTER
Abstract: front page image
(EN)A poly epoxy ester resin composition of the following chemical structure: where n is a number from 2 to about 3000; each m independently has a value of 0 or 1; each R0 is independently -H or -CH3; each R1 is independently -H or a C1 to C6 alkylene radical (saturated divalent aliphatic hydrocarbon radical), Ar is a divalent aryl group or heteroarylene group;_and X is cycloalkylene group, including substituted cycloalkylene group, where the substitute group include an alkyl, cycloalkyl, an aryl or an aralkyl group or other substitute group, for example, a halogen, a nitro, a blocked isocyanate, or an alkyloxy group; the combination of cycloalkylene and alkylene groups and the combination of alkylene and cycloalkylene group with a bridging moiety in between.
(FR)L'invention concerne une composition de résine de poly époxy ester de la structure chimique suivante : dans laquelle n est un nombre de 2 à environ 3 000 ; chaque m a indépendamment une valeur de 0 ou 1 ; chaque R0 représente indépendamment -H ou -CH3 ; chaque R1 représente indépendamment -H ou un radical alkylène en C1 à C6 (radical hydrocarboné aliphatique divalent saturé), Ar représente un groupe aryle divalent ou un groupe hétéroarylène ; et X représente un groupe cycloalkylène, comprenant un groupe cycloalkylène substitué, le groupe substituant comprenant un groupe alkyle, un groupe cycloalkyle, un groupe aryle ou un groupe aralkyle ou un autre groupe substituant, par exemple, un halogène, un nitro, un isocyanate bloqué ou un groupe alkyloxy ; la combinaison de groupes cycloalkylène et alkylène et la combinaison de groupes alkylène et cycloalkylène ayant une fraction pontante entre les deux.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)