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1. (WO2012050015) POLYMERIZABLE FLUORINE-CONTAINING SULFONATE, FLUORINE-CONTAINING SULFONATE RESIN, RESIST COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/050015    International Application No.:    PCT/JP2011/072931
Publication Date: 19.04.2012 International Filing Date: 05.10.2011
IPC:
C08F 20/38 (2006.01), C07C 309/10 (2006.01), C07C 381/12 (2006.01), C08F 220/26 (2006.01), C08F 232/04 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5253, Oaza Okiube, Ube-shi, Yamaguchi 7550001 (JP) (For All Designated States Except US).
TAKIHANA, Ryozo; (For US Only).
NARIZUKA, Satoru; (For US Only)
Inventors: TAKIHANA, Ryozo; .
NARIZUKA, Satoru;
Agent: KOBAYASHI, Hiromichi; c/o Shiga Patent Office, Ekisaikai Bldg., 1-29, Akashi-cho, Chuo-ku, Tokyo 1040044 (JP)
Priority Data:
2010-230238 13.10.2010 JP
Title (EN) POLYMERIZABLE FLUORINE-CONTAINING SULFONATE, FLUORINE-CONTAINING SULFONATE RESIN, RESIST COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING SAME
(FR) SULFONATE POLYMÉRISABLE À TENEUR EN FLUOR, RÉSINE DE SULFONATE À TENEUR EN FLUOR, COMPOSITION DE RÉSERVE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF À L'AIDE DE LA COMPOSITION
(JA) 重合性含フッ素スルホン酸塩類、含フッ素スルホン酸塩樹脂、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
Abstract: front page image
(EN)According to the invention, a sulfonate resin having a repeating unit represented by general formula (3) is provided. In formula (3), X represents a hydrogen atom or a fluorine atom; n represents an integer of 1 to 10; R1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group or fluorine-containing alkyl group having 1 to 3 carbon atoms; R2 represents RAO or RBRCN; and M+ represents a monovalent cation. The sulfonate resin has a structure in which onium sulfonate is incorporated in a side chain and an anion is fixed to a resin side, and is used preferably as a resist resin having a high solubility in propylene glycol monomethyl ether acetate.
(FR)L'invention concerne une résine de sulfonate ayant une unité répétitive représentée par la formule générale (3). Dans la formule (3), X représente un atome d'hydrogène ou un atome de fluor ; n représente un entier de 1 à 10 ; R1 représente un atome d'hydrogène, un atome d'halogène ou un groupe alkyle ou un groupe alkyle à teneur en fluor ayant de 1 à 3 atomes de carbone ; R2 représente RAO ou RBRCN ; et M+ représente un cation monovalent. La résine de sulfonate a une structure dans laquelle du sulfonate d'onium est incorporé dans une chaîne latérale et un anion est fixé à un côté résine, et est utilisée de préférence en tant que résine de réserve ayant une solubilité élevée dans le monométhyl éther acétate de propylène glycol.
(JA)本発明によれば、下記一般式(3)で表される繰り返し単位を有するスルホン酸塩樹脂が提供される。 (式中、Xは水素原子またはフッ素原子、nは1~10の整数。R1は水素原子、ハロゲン原子または炭素数1~3のアルキル基もしくは含フッ素アルキル基を表す。R2は、RAO、RBCNのいずれかを表す。M+は、一価のカチオンを表す。) 該スルホン酸塩樹脂は、側鎖にスルホン酸オニウム塩を組み込まれアニオンが樹脂側に固定され、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートへの溶解度の高いレジスト樹脂として好適に使用される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)