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1. (WO2012049922) FILM-FORMING APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/049922    International Application No.:    PCT/JP2011/070359
Publication Date: 19.04.2012 International Filing Date: 07.09.2011
IPC:
C23C 18/12 (2006.01), B05D 7/24 (2006.01)
Applicants: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (For All Designated States Except US).
IMADA, Hiroshi; (For US Only)
Inventors: IMADA, Hiroshi;
Agent: Fukami Patent Office, p.c.; Nakanoshima Central Tower, 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Priority Data:
2010-230554 13.10.2010 JP
Title (EN) FILM-FORMING APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD
(FR) APPAREIL DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
(JA) 製膜装置及び製膜方法
Abstract: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to eliminate breakage of a substrate and cracks in a metal oxide film by eliminating a local temperature difference in the substrate. This film-forming apparatus manufactures a metal oxide film on the surface of a substrate, and the apparatus is provided with a main heating means which heats the whole surface of the substrate, an atomizing section which atomizes a solution into droplet fine particles, said solution containing a metal oxide precursor, and a nozzle which sprays, to a predetermined region, a gas containing the droplet fine particles. The apparatus is also provided with an auxiliary heating means, which selectively heats the predetermined region to which the gas containing the droplet fine particles is sprayed.
(FR)Le but de la présente invention est d'éliminer la rupture d'un substrat et les fissures dans un film d'oxyde métallique en éliminant une différence de température locale dans le substrat. Cet appareil de formation de film fabrique un film d'oxyde métallique sur la surface d'un substrat et l'appareil est équipé d'un moyen de chauffage principal qui chauffe la surface entière du substrat, d'une section d'atomisation qui atomise une solution en fines particules sous forme de gouttelettes, ladite solution contenant un précurseur d'oxyde métallique, et d'un gicleur qui pulvérise, dans une région prédéterminée, un gaz contenant les particules fines sous forme de gouttelettes. L'appareil est également équipé d'un moyen de chauffage auxiliaire, qui chauffe sélectivement la région prédéterminée dans laquelle le gaz contenant les particules fines sous forme de gouttelettes est pulvérisé.
(JA) 基板における局所的な温度差を解消することにより、基板の割れや金属酸化膜のクラックを防止する。本発明の製膜装置は、基板の表面に金属酸化膜を生産するものであって、基板の全面を加熱する主加熱手段と、金属酸化物前駆体を含む溶液を霧化して液滴微粒子とする霧化部と、液滴微粒子を含むガスを上記所定の領域に吹きつけるノズルと、を備え、液滴微粒子を含むガスを吹きつける所定の領域を選択的に加熱する補助加熱手段をさらに備える。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)