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Pub. No.:    WO/2012/049909    International Application No.:    PCT/JP2011/068944
Publication Date: 19.04.2012 International Filing Date: 23.08.2011
C02F 3/34 (2006.01), C02F 3/28 (2006.01)
Applicants: MEIDENSHA CORPORATION [JP/JP]; 1-1, Osaki 2-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410032 (JP) (For All Designated States Except US).
FUKUZAKI, Yasuhiro; (For US Only).
NAKAMURA, Yasuhiro; (For US Only).
KAWAKUBO, Yuki; (For US Only)
Inventors: FUKUZAKI, Yasuhiro; .
NAKAMURA, Yasuhiro; .
Agent: KOBAYASHI, Hiromichi; c/o Shiga Patent Office, Ekisaikai Bldg., 1-29, Akashi-cho, Chuo-ku, Tokyo 1040044 (JP)
Priority Data:
2010-232489 15.10.2010 JP
(JA) 廃水処理装置
Abstract: front page image
(EN)The waste water treatment equipment (1) is provided with: a reaction tank (10), wherein water to be treated is introduced from the bottom (100) and brought into contact with microbial aggregates contained in a layer near the bottom (100) and is thereafter discharged from the top as treated water; a gas bubble-separating screen (11) that contacts microbial aggregates with attached bubbles of gas generated from said layer and separates said gas bubbles; a gas bubble-collecting tube (12) that collects and guides the bubbles of gas or gas bubbles separating by the gas bubble-separating screen (11) to the vicinity of the liquid surface in the reaction tank (10); and a side surface screen (13) that separates the liquid phase at the top of the reaction tank (10), which contains microbial aggregates, into microbial aggregates and treated water. The reaction tank (10) can be provided with a central screen (14), which contacts microbial aggregates that remain on the outside of the gas bubble-collecting tube (12) and separates gas bubbles from said microbial aggregates. Treated water with pH adjusted in an adjustment tank (18) can be supplied to the reaction tank (10).
(FR)L'invention concerne un équipement de traitement des eaux usées (1) comprenant : un réservoir de réaction (10) dans lequel l'eau à traiter est introduite par le fond (100) et mise en contact avec des agrégats microbiens contenus dans une couche à proximité du fond (100) et est ensuite refoulée par le sommet sous forme d'eau traitée ; une grille de séparation de bulles de gaz (11) qui entre en contact avec les agrégats microbiens avec des bulles de gaz attachées produits par ladite couche et sépare lesdites bulles de gaz ; un tube de collecte de bulles de gaz (12) qui recueille et guide les bulles de gaz ou les bulles de gaz séparées par la grille de séparation de bulles de gaz (11) jusqu'à la proximité de la surface du liquide dans le réservoir de réaction (10) ; et une grille de surface latérale (13) qui sépare la phase liquide au sommet du réservoir de réaction (10) qui contient les agrégats microbiens en agrégats microbiens et eau traitée. Le réservoir de réaction (10) peut être doté d'une grille centrale (14) qui entre en contact avec les agrégats microbiens qui restent à l'extérieur du tube de collecte de bulles de gaz (12) et sépare les bulles de gaz desdits agrégats microbiens. De l'eau traitée avec un pH ajusté dans un réservoir d'ajustement (18) peut être fournie au réservoir de réaction (10).
(JA) 廃水処理装置1は、被処理水を底部100から導入して底部100付近の層に含まれる微生物塊と接触させた後に処理水として上部から排出させる反応槽10と、前記層から生じたガスの気泡を付着させた微生物塊と接触して当該気泡を分離させる気泡分離スクリーン11と、前記ガスの気泡または気泡分離スクリーン11によって分離された気泡を捕集して反応槽10の液面付近までに案内させる気泡捕集管12と、反応槽10の上層部の微生物塊を含んだ液相を微生物塊と処理水とに分離する側面スクリーン13とを備える。反応槽10には気泡捕集管12の外側にて滞留する微生物塊と接触して当該微生物塊から気泡を分離させる中央スクリーン14を備えるとよい。尚、調整槽18でpH調整した処理水を反応槽10に供するとよい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)