WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2012049593) METHOD FOR MANUFACTURING AN ORGANIC ELECTRONIC DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/049593    International Application No.:    PCT/IB2011/054404
Publication Date: 19.04.2012 International Filing Date: 06.10.2011
IPC:
H01L 51/00 (2006.01)
Applicants: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. [NL/NL]; High Tech Campus 5 NL-5656 AE Eindhoven (NL) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
PHILIPS INTELLECTUAL PROPERTY & STANDARDS GMBH [DE/DE]; Lübeckertordamm 5 20099 Hamburg (DE) (DE only).
HARTMANN, Sören [DE/DE]; (NL) (For US Only).
LIFKA, Herbert [AT/NL]; (NL) (For US Only)
Inventors: HARTMANN, Sören; (NL).
LIFKA, Herbert; (NL)
Agent: VAN EEUWIJK, Alexander, H.,W.; High Tech Campus, Building 44 NL-5656 AE Eindhoven (NL)
Priority Data:
10187218.2 12.10.2010 EP
Title (EN) METHOD FOR MANUFACTURING AN ORGANIC ELECTRONIC DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ORGANIQUE
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to method for manufacturing an electronic device comprising an organic layer (120). According to this method, a stack with a metal layer (130) and an organic layer (120) as first and second outer layers is structured by etching both these outer layers. In one particular embodiment, an additional metal layer (140) may be generated on the outermost metal layer (130) by galvanic growth through a structured isolation 10 layer (150). After removal of said isolation layer (150), the metal (130) may be etched in the openings of the additional metal layer (140). In a further etching step, the organic material (120) may be removed in said openings, too.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif électronique comprenant une couche organique (120). Selon ce procédé, une pile comprenant une couche métallique (130) et une couche organique (120) constituant la première et la seconde des couches extérieures est structurée par gravure de ces deux couches extérieures. Dans un mode de réalisation particulier, une couche métallique supplémentaire (140) peut être produite sur la couche métallique (130) extérieure par croissance galvanique sur une couche d'isolation structurée (150). Après élimination de ladite couche d'isolation (150), le métal (130) peut être gravé dans les ouvertures de la couche métallique supplémentaire (140). Dans une étape suivante de gravure, le matériau organique (120) peut être éliminé également dans ces ouvertures.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)