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1. (WO2012048494) HYDROGEN CHLORIDE GAS EJECTING COMPONENT USED IN TRICHLOROSILANE SYNTHESIS TOWER AND METHOD USING THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/048494    International Application No.:    PCT/CN2010/079587
Publication Date: 19.04.2012 International Filing Date: 09.12.2010
IPC:
C01B 33/107 (2006.01), C07F 7/16 (2006.01)
Applicants: NINGXIA SUNSHINE SILICONE INDUSTRIES CO., LTD. [CN/CN]; Xidian Rd. Hebin Industry Zone, Shizuishan District Shizuishan, Ningxia 753202 (CN) (For All Designated States Except US).
WU, Weixing [CN/CN]; (CN) (For US Only).
PU, Quanfu [CN/CN]; (CN) (For US Only).
LI, Haijun [CN/CN]; (CN) (For US Only).
ZHANG, Chunlin [CN/CN]; (CN) (For US Only).
XU, Lijun [CN/CN]; (CN) (For US Only).
LIU, Jun [CN/CN]; (CN) (For US Only).
CHEN, Yanmei [CN/CN]; (CN) (For US Only).
CHEN, Guoqi [CN/CN]; (CN) (For US Only).
PAN, Luntao [CN/CN]; (CN) (For US Only)
Inventors: WU, Weixing; (CN).
PU, Quanfu; (CN).
LI, Haijun; (CN).
ZHANG, Chunlin; (CN).
XU, Lijun; (CN).
LIU, Jun; (CN).
CHEN, Yanmei; (CN).
CHEN, Guoqi; (CN).
PAN, Luntao; (CN)
Agent: NINGXIA PATENT SERVICE CERTER; Room 4003, Science and Technologys Building 24th, Gongyuan Street, Xingqing District Yinchuan, Ningxia 750001 (CN)
Priority Data:
201010504512.3 13.10.2010 CN
Title (EN) HYDROGEN CHLORIDE GAS EJECTING COMPONENT USED IN TRICHLOROSILANE SYNTHESIS TOWER AND METHOD USING THE SAME
(FR) COMPOSANT D'ÉJECTION DE CHLORURE D'HYDROGÈNE GAZEUX UTILISÉ DANS UNE TOUR DE SYNTHÈSE DE TRICHLOROSILANE ET SON PROCÉDÉ D'UTILISATION
(ZH) 用于三氯硅烷合成塔的氯化氢气体喷出构件及其使用方法
Abstract: front page image
(EN)A hydrogen chloride gas ejecting component (50) used in a trichlorosilane synthesis tower includes a shaft portion (51) with a screw thread, a head portion (52) connecting with the shaft portion (51) and having a same axial line as that of the shaft portion (51), and an end cap portion (53) connecting with the head portion (52), in which the head portion (52) has an external diameter larger than that of the shaft portion (51), and the end cap portion (53) has an external diameter larger than the maximum external diameter of the head portion (52); the center of the shaft portion (51) is provided with an axial gas supply hole (54) extending to the inside of the head portion (52), and on the head portion (52) are provided multiple horizontal gas ejecting holes (55) and inclined-up gas ejecting holes (56) which are cross communicated with the gas supply hole (54) and opened at the outer surface of the head portion (52), the gas ejecting holes are each at an angle of 90 to 40 degrees with the upward axial line. A method for synthesis of trichlorosilane by using the hydrogen chloride gas ejecting component (50) is also provided. The hydrogen chloride gas ejecting component (50) has a good ejecting effect, no clogging, and a long service life, and the production of trichlorosilane by the method has a high yield and a high efficiency.
(FR)L'invention porte sur un composant (50) d'éjection de chlorure d'hydrogène gazeux utilisé dans une tour de synthèse de trichlorosilane, comprenant une partie arbre (51) dotée d'un filetage de vis, une partie tête (52) reliée à la partie arbre (51) et ayant la même ligne axiale que celle de la partie arbre (51) et une partie capuchon d'extrémité (53) reliée à la partie tête (52), la partie tête (52) ayant un diamètre externe plus grand que celui de la partie arbre (51) et la partie capuchon d'extrémité (53) ayant un diamètre externe plus grand que le diamètre externe maximal de la partie tête (52). Le centre de la partie arbre (51) est doté d'un trou (54) d'introduction de gaz axial s'étendant vers l'intérieur de la partie tête (52) et sur la partie tête (52) sont disposés de multiples trous (55) d'éjection de gaz horizontaux et trous (56) d'éjection de gaz inclinés vers le haut qui sont en communication croisée avec le trou (54) d'introduction de gaz et ouverts à la surface externe de la partie tête (52). Les trous d'éjection de gaz sont chacun à un angle de 90 à 40 degrés par rapport à la ligne axiale ascendante. L'invention porte également sur un procédé pour la synthèse de trichlorosilane utilisant le composant (50) d'éjection de chlorure d'hydrogène gazeux. Le composant (50) d'éjection de chlorure d'hydrogène gazeux a un bon effet d'éjection, ne se colmate pas et a une longue durée de vie et la production de trichlorosilane par le procédé permet de produire de grandes quantités et a un rendement élevé.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)