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1. (WO2012048166) PARTICLE BEAM COUPLINGSYSTEM AND METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/048166    International Application No.:    PCT/US2011/055175
Publication Date: 12.04.2012 International Filing Date: 06.10.2011
IPC:
H05H 5/02 (2006.01), H05H 13/00 (2006.01)
Applicants: LAWRENCE LIVERMORE NATIONAL SECURITY, LLC [US/US]; 2300 First Street Suite 204 Livermore, CA 94550 (US) (For All Designated States Except US).
GUETHLEIN, Gary [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: GUETHLEIN, Gary; (US)
Agent: AI, Bing; Perkins Coie LLP P.O.Box 1247 Seattle, WA 98111-1247 (US)
Priority Data:
13/253,940 05.10.2011 US
61/390,545 06.10.2010 US
Title (EN) PARTICLE BEAM COUPLINGSYSTEM AND METHOD
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE COUPLAGE DE FAISCEAU DE PARTICULES
Abstract: front page image
(EN)Methods and devices enable coupling of a charged particle beam to a radio frequency quadrupole (RFQ). Coupling of the charged particle beam is accomplished, at least in-part, by relying on sensitivity of the RFQ to energies of the incoming charged particle beam. A portion of a charged particle beam, which has an initial energy outside a range of RFQ's acceptance energy values, is subjected to a field that modifies its energy to fall within the range of RFQ's acceptance energy values. Once the field is removed, the charged particle beam returns to the initial energy that is outside of the RFQ' range of acceptance energy values. In another configuration, a portion of a charged particle beam, which has an initial energy within the range of RFQ's acceptance energy values, is subjected to a field that modifies its energy to fall outside the range of acceptance energy values of the RFQ.
(FR)L'invention concerne des procédés et des dispositifs permettant de coupler un faisceau de particules chargées à un quadripôle radiofréquence (RFQ). Le couplage du faisceau de particules chargées est réalisé, au moins en partie, en se basant sur la sensibilité du RFQ aux énergies du faisceau entrant de particules chargées. Une partie du faisceau de particules chargées, qui présente une énergie initiale dont la valeur se situe en dehors d'une plage de valeurs d'énergie d'admission du RFQ, est soumise à l'action d'un champ qui modifie son énergie de manière que sa valeur se situe dans la plage de valeurs d'énergie d'admission du RFQ. Une fois que le champ n'est plus appliqué, le faisceau de particules chargées présente à nouveau l'énergie initiale qui se situe en dehors de la plage de valeurs d'énergie d'admission du RFQ. Dans une autre configuration, une partie du faisceau de particules chargées, qui présente une énergie initiale dont la valeur se situe dans la plage de valeurs d'énergie d'admission du RFQ, est soumise à un champ qui modifie son énergie de manière que sa valeur ne se trouve plus dans la plage de valeurs d'énergie d'admission du RFQ.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)