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1. (WO2012046672) DEPOSITION APPARATUS AND DEPOSITION MATERIAL SUPPLY METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/046672    International Application No.:    PCT/JP2011/072722
Publication Date: 12.04.2012 International Filing Date: 03.10.2011
IPC:
C23C 14/24 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP) (For All Designated States Except US).
ONO, Yuji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HAYASHI, Teruyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KANEKO, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: ONO, Yuji; (JP).
HAYASHI, Teruyuki; (JP).
KANEKO, Hiroshi; (JP)
Agent: KOHNO, Takao; KOHNO PATENT OFFICE, 4-3, Tsuriganecho 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400035 (JP)
Priority Data:
2010-225157 04.10.2010 JP
Title (EN) DEPOSITION APPARATUS AND DEPOSITION MATERIAL SUPPLY METHOD
(FR) APPAREIL DE DÉPÔT ET PROCÉDÉ D'APPORT DE MATÉRIAU DE DÉPÔT
(JA) 成膜装置及び成膜材料供給方法
Abstract: front page image
(EN)A deposition apparatus capable of suppressing pressure increase and temperature increase within a vapor generation unit and precisely controlling the temperature. A deposition apparatus for performing deposition treatment on a glass substrate (G) is provided with: a treatment chamber (5) which houses the glass substrate (G); a vapor generation unit (1) which generates vapor of a deposition material by heating the deposition material; a carrier path (21) for carrying the vapor of the deposition material generated by the vapor generation unit (1), together with carrier gas, to the treatment chamber (5); an exhaust path (22), a regulation valve device (31) which is provided in the middle of the carrier path; an exhaust valve device (32) which is provided in the middle of the exhaust path (22); a material temperature detection unit (64) which detects the temperature of the vapor generation unit (1); a first vapor amount detection unit (23), and a control unit (8) which, when the deposition material is heated, controls the opening/closing operation of the exhaust valve device (32) according to the level of the temperature of the vapor generation unit (1), and when the deposition material is carried to the treatment chamber, closes the exhaust valve device (32) and opens the regulation valve device (31) when the vapor amount detected by the first vapor amount detection unit (23) is stabilized.
(FR)Cette invention concerne un appareil de dépôt apte à supprimer une augmentation de la pression et de la température au sein d'une unité de génération de vapeur et apte à réguler la température de manière précise. Un appareil de dépôt destiné à exécuter un traitement de dépôt sur un substrat de verre (G) comprend : une chambre de traitement (5) qui accueille le substrat de verre (G) ; une unité de génération de vapeur (1) qui génère de la vapeur d'un matériau de dépôt en chauffant le matériau de dépôt ; un passage de transport (21) pour transporter la vapeur de matériau de dépôt générée par l'unité de génération de vapeur (1), avec un gaz porteur, vers la chambre de traitement (5) ; un passage d'évacuation (22), un dispositif formant soupape de régulation (31) disposé au centre du passage de transport ; un dispositif formant soupape d'évacuation (32) disposé au centre du passage d'évacuation (22) ; une unité de détection de la température du matériel (64) qui détecte la température de l'unité de génération de vapeur (1) ; une première unité de détection de quantité de vapeur (23), et une unité de commande (8). Quand le matériau de dépôt est chauffé, ladite unité de commande contrôle l'opération d'ouverture/fermeture du dispositif formant soupape d'évacuation (32) en fonction du niveau de la température de l'unité de génération de vapeur (1). Quand le matériau de dépôt est transporté vers la chambre de traitement, ladite unité de commande ferme le dispositif formant soupape d'évacuation (32) et ouvre le dispositif formant soupape de régulation (31) dès que la quantité de vapeur détectée par la première unité de détection de quantité de vapeur (23) est stabilisée.
(JA) 蒸気発生部内部の圧力上昇、温度上昇を抑えることができ、精密な温度制御を行うことができる成膜装置。 ガラス基板Gに成膜処理を行う成膜装置に、ガラス基板Gを収容する処理室5と、成膜材料を加熱することによって、該成膜材料の蒸気を発生させる蒸気発生部1と、蒸気発生部1で発生させた成膜材料の蒸気を搬送ガスと共に処理室5へ搬送するための搬送路21と、排気路22と、搬送路の途中に設けられた調整弁装置31と、排気路22の途中に設けられた排気弁装置32とを、蒸気発生部1の温度を検出する材料温度検出部64と、第1蒸気量検出部23と、成膜材料を加熱する場合、蒸気発生部1の温度の高低に応じて、排気弁装置32の開閉動作を制御し、成膜材料を前記処理室へ搬送する場合、第1蒸気量検出部23で検出された蒸気量が安定した場合、排気弁装置32を閉鎖し、調整弁装置31を開放させる制御部8とを備える。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)