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1. (WO2012046589) METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL, AND PHOTOMASK
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/046589    International Application No.:    PCT/JP2011/071964
Publication Date: 12.04.2012 International Filing Date: 27.09.2011
IPC:
G02F 1/1337 (2006.01), G02F 1/13 (2006.01), G02F 1/1339 (2006.01)
Applicants: Sharp Kabushiki Kaisha [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (For All Designated States Except US).
SAWAYAMA Yutaka [JP/--]; (For US Only).
FUJII Yasuo [JP/--]; (For US Only)
Inventors: SAWAYAMA Yutaka; .
FUJII Yasuo;
Agent: YASUTOMI & Associates; 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003 (JP)
Priority Data:
2010-225964 05.10.2010 JP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL, AND PHOTOMASK
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN SUBSTRAT POUR ÉCRAN D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES, ET PHOTOMASQUE
(JA) 液晶表示パネル用基板の製造方法、及び、フォトマスク
Abstract: front page image
(EN)The present invention provides: a method for producing a substrate for a liquid crystal display panel, which is capable of suppressing disturbance of the alignment of liquid crystal molecules due to liquid crystal alignment controlling projections; and a photomask. The present invention specifically provides a method for producing a substrate for a liquid crystal display panel, wherein: the substrate comprises liquid crystal alignment controlling projections; the liquid crystal alignment controlling projections include main projections and auxiliary projections; and the auxiliary projections are linear and shorter than the main projections. The production method comprises a step in which a positive photosensitive resin film is formed and a step in which the photosensitive resin film is exposed through a photomask. The photomask has light dimming regions for forming the auxiliary projections, and each light dimming region has a slit-like light transmitting portion.
(FR)La présente invention concerne : un procédé de production d'un substrat pour écran d'affichage à cristaux liquides susceptible de supprimer toute perturbation de l'alignement de molécules de cristaux liquides due à des saillies de commande d'alignement de cristaux liquides ; et un photomasque. Plus précisément, un procédé de production d'un substrat pour écran d'affichage à cristaux liquides d'après la présente invention s'applique lorsque le substrat comporte des saillies de commande d'alignement de cristaux liquides comprenant des saillies principales et des saillies auxiliaires linéaires et plus courtes que les saillies principales. Le procédé de production comprend les étapes consistant à former un film positif en une résine photosensible, puis à l'exposer à travers un photomasque. Le photomasque comporte des régions d'atténuation de lumière permettant de former les saillies auxiliaires, chaque région d'atténuation de lumière comportant une partie de transmission de lumière de type fente.
(JA)本発明は、液晶配向制御突起物に起因する液晶分子の配向の乱れを抑制できる液晶表示パネル用基板の製造方法、及び、フォトマスクを提供する。本発明は、液晶表示パネル用基板の製造方法であって、上記基板は、液晶配向制御突起物を備え、上記液晶配向制御突起物は、主突起物、及び、副突起物を含み、上記副突起物は、直線状であり、かつ、上記主突起物よりも低く、上記製造方法は、ポジ型の感光性樹脂膜を形成する工程と、フォトマスクを通して上記感光性樹脂膜を露光する工程とを含み、上記フォトマスクは、上記副突起物を形成するための調光領域を有し、上記調光領域は、スリット状の透光部を有する液晶表示パネル用基板の製造方法である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)