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1. (WO2012046501) HUMIDITY DETECTION SENSOR AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/046501    International Application No.:    PCT/JP2011/068082
Publication Date: 12.04.2012 International Filing Date: 08.08.2011
IPC:
G01N 27/22 (2006.01)
Applicants: ALPS ELECTRIC CO., LTD. [JP/JP]; 1-7, Yukigaya-otsukamachi, Ota-ku, Tokyo 1458501 (JP) (For All Designated States Except US).
TONDOKORO, Atsushi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
WAGA, Satoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SATO, Takashi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YOKOYAMA, Shinya [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MORITA, Sumihito [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TONDOKORO, Atsushi; (JP).
WAGA, Satoshi; (JP).
SATO, Takashi; (JP).
YOKOYAMA, Shinya; (JP).
MORITA, Sumihito; (JP)
Agent: AOKI, Hiroyoshi; 7F, Nibancho Cashew Bldg., 4-3, Niban-cho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020084 (JP)
Priority Data:
2010-224660 04.10.2010 JP
Title (EN) HUMIDITY DETECTION SENSOR AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF
(FR) CAPTEUR DÉTECTEUR D'HUMIDITÉ ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 湿度検出センサ及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN)The purpose is to enable the smooth penetration of water molecules into the inside of a humidity-sensitive film and to improve the moisture resistance of an upper electrode in a humidity detection sensor which comprises the humidity-sensitive film intercalated between a lower electrode and the upper electrode. The humidity detection sensor comprises a substrate (10), a lower electrode (21) which is arranged on the substrate (10), an upper electrode (23) which is arranged opposite to the lower electrode (21), a humidity-sensitive film (22) which is formed at least between the lower electrode (21) and the upper electrode (23) and of which the dielectric constant alters in accordance with humidity, and a protective film (24) which is so arranged as to cover the upper electrode (23), wherein the upper electrode (23) and the protective film (24) have an opening (25) in which a portion of the humidity-sensitive film (22) is exposed to the outside, and the humidity-sensitive film (22) is arranged at a position which is higher than at least the lower surface of the protective film (24) in the opening (25).
(FR)L'objectif de la présente invention est de permettre la pénétration en douceur des molécules d'eau à l'intérieur d'un film sensible à l'humidité et d'améliorer la résistance à l'humidité d'une électrode supérieure dans un capteur détecteur d'humidité qui comprend ledit film sensible à l'humidité intercalé entre une électrode inférieure (21) et l'électrode supérieure. Le capteur détecteur d'humidité comprend un substrat (10), une électrode inférieure (21) qui est formée sur le substrat (10), une électrode supérieure (23) qui est formée à l'opposé de l'électrode inférieure (21), un film sensible à l'humidité (22) qui est formé au moins entre l'électrode inférieure (21) et l'électrode supérieure (23) et dont la constante diélectrique varie avec l'humidité, et un film protecteur (24) qui est formé de manière à recouvrir l'électrode supérieure (23). L'électrode supérieure (23) et le film protecteur (24) comportent une ouverture (25) par laquelle une partie du film sensible à l'humidité (22) est exposée à l'extérieur, et le film sensible à l'humidité (22) se trouve en une position qui est plus haute au moins que la surface inférieure du film protecteur (24) dans l'ouverture (25).
(JA) 感湿膜を下部電極と上部電極で挟持する湿度検出センサにおいて、水分子を円滑に感湿膜の内部に通過させると共に、上部電極の耐湿性を向上させることを目的の一とする。基板(10)上に設けられた下部電極(21)と、下部電極(21)と対向して設けられた上部電極(23)と、下部電極(21)と上部電極(23)の間に少なくとも形成され湿度に応じて誘電率が変化する感湿膜(22)と、上部電極(23)を覆うように設けられた保護膜(24)とを具備し、上部電極(23)及び保護膜(24)は、感湿膜(22)が部分的に外界に露出する開口部(25)を有し、開口部(25)において、感湿膜(22)を、少なくとも保護膜(24)の下面の位置より高い位置まで設ける。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)