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1. (WO2012046397) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/046397    International Application No.:    PCT/JP2011/005254
Publication Date: 12.04.2012 International Filing Date: 16.09.2011
IPC:
H01L 21/683 (2006.01)
Applicants: CANON ANELVA CORPORATION [JP/JP]; 2-5-1, Kurigi, Asao-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2158550 (JP) (For All Designated States Except US).
SAITO, Reiji [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SAITO, Reiji; (JP)
Agent: OHTSUKA, Yasunori; 7th Fl., Kioicho Park Bldg., 3-6, Kioicho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020094 (JP)
Priority Data:
2010-227465 07.10.2010 JP
Title (EN) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理装置
Abstract: front page image
(EN)A substrate processing device comprises: a substrate stage; a support that supports the substrate stage; a first rotation drive portion that causes the support to rotate; and at least three lift pins, provided in the substrate stage, for supporting and elevating a substrate. The substrate processing device comprises an elevation mechanism for vertically moving the lift pins. The elevation mechanism comprises: a first rotation member that is provided about the support and rotates about the support around an axis of rotation identical to the axis of rotation of the support; a second rotation drive member for causing the first rotation member to rotate by rotating around an axis of rotation which is at a position offset from the abovementioned axis of rotation and transmitting the rotation to the first rotation member via a transmission member; at least three second rotation members that rotate by engaging with the rotation of the first rotation member and that are disposed below the lift pins; a mobile body that moves linearly by the rotation of the second rotation member; and pins that cause the lift pins to move vertically according to the linear motion of the mobile body.
(FR)La présente invention a trait à un dispositif de traitement de substrat qui comprend : un étage de substrat ; un support qui supporte l'étage de substrat ; une première partie d'entraînement de rotation qui entraîne la rotation du support ; et au moins trois broches de soulèvement, qui sont disposées dans l'étage de substrat et qui supportent et soulèvent un substrat. Le dispositif de traitement de substrat comprend un mécanisme d'élévation permettant de déplacer à la verticale les broches de soulèvement. Le mécanisme d'élévation comprend : un premier élément de rotation qui est prévu autour du support et qui tourne autour du support autour d'un axe de rotation identique à l'axe de rotation du support ; un second élément d'entraînement de rotation qui entraîne la rotation du premier élément de rotation en tournant autour d'un axe de rotation qui se trouve à un emplacement décalé dudit axe de rotation et en transmettant la rotation au premier élément de rotation par l'intermédiaire d'un élément de transmission ; au moins trois seconds éléments de rotation qui tournent en se mettant en prise avec la rotation du premier élément de rotation et qui sont disposés sous les broches de soulèvement ; un corps mobile qui se déplace linéairement par la rotation du second élément de rotation ; et des broches qui permettent aux broches de soulèvement de se déplacer à la verticale conformément au mouvement linéaire du corps mobile.
(JA) 基板処理装置は基板ステージと、基板ステージを支持する支柱と、支柱を回転させる第一回転駆動部と、基板ステージ内に設けられ、基板を支持しながら昇降するための少なくとも3つのリフトピンと、を備える。基板処理装置はリフトピンを上下動するための昇降機構を備え、昇降機構は、支柱の周囲に配置され、支柱の周囲を支柱の回転軸と同軸まわりに回転する第一回転部材と、回転軸からオフセットした位置にある回転軸まわりに回転し、当該回転を、伝達部材を介して第一回転部材に伝達し、当該第一回転部材を回転させるための第二回転駆動部と、第一回転部材の回転と係合して回転するとともに、リフトピンの下側に配置された、少なくとも3つの第二回転部材と、第二回転部材の回転により、直線運動する移動体と、移動体の直線運動によって、リフトピンを上下動させるピンとを備える。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)