WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2012045728) METHOD FOR FACILITATING THE LOCATION OF DIFFRACTION SPOTS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/045728    International Application No.:    PCT/EP2011/067291
Publication Date: 12.04.2012 International Filing Date: 04.10.2011
Chapter 2 Demand Filed:    31.07.2012    
IPC:
G01N 23/20 (2006.01)
Applicants: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES [FR/FR]; 25 rue Leblanc Bâtiment "Le Ponant D" F-75015 Paris (FR) (For All Designated States Except US).
ROUVIERE, Jean-Luc [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: ROUVIERE, Jean-Luc; (FR)
Agent: ILGART, Jean-Christophe; BREVALEX 95 rue d'Amsterdam F-75378 Paris Cedex 8 (FR)
Priority Data:
10 58031 04.10.2010 FR
Title (EN) METHOD FOR FACILITATING THE LOCATION OF DIFFRACTION SPOTS
(FR) PROCEDE POUR FACILITER LA LOCALISATION DE TACHES DE DIFFRACTION
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to a method for facilitating the location of diffraction spots present on a diffraction pattern. This method comprises the following successive steps: a) the obtaining of a diffraction pattern by illuminating at least a part of a sample comprising at least one periodic zone by an incident beam of a radiation liable to be diffracted by said at least one periodic zone of the sample, and by placing a detector in the path of the beam thus diffracted; b) the locating of the diffraction spots present on the diffraction pattern obtained in step a), by determining the spatial coordinates of these spots on the detector. Step b) is facilitated by the use, in step a), of means which make it possible to modify the shape and to increase the length of contour of the diffraction spots which form on said pattern.
(FR)L' invention concerne un procédé pour faciliter la localisation de taches de diffraction présentes sur un cliché de diffraction. Ce procédé comprend les étapes successives suivantes : a) l'obtention d'un cliché de diffraction par éclairage d'au moins une partie d'un échantillon comportant au moins une zone périodique par un faisceau incident d'un rayonnement susceptible d'être diffracté par ladite au moins une zone périodique de l'échantillon, et par placement d'un détecteur sur le trajet du faisceau ainsi diffracté; b) la localisation des taches de diffraction présentes sur le cliché de diffraction obtenu à l'étape a), par détermination des coordonnées spatiales de ces taches sur le détecteur. L'étape b) est facilitée par l'utilisation, à l'étape a), de moyens qui permettent de modifier la forme et d' augmenter la longueur de contour des taches de diffraction se formant sur ledit cliché.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)