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1. (WO2012045113) SINTERED DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/045113    International Application No.:    PCT/AU2011/001264
Publication Date: 12.04.2012 International Filing Date: 05.10.2011
Chapter 2 Demand Filed:    20.04.2012    
IPC:
H01L 21/02 (2006.01), B82Y 40/00 (2011.01), H01L 21/208 (2006.01), H01L 21/324 (2006.01), H01L 21/368 (2006.01), H01L 21/477 (2006.01)
Applicants: COMMONWEALTH SCIENTIFIC AND INDUSTRIAL RESEARCH ORGANISATION [AU/AU]; Limestone Avenue Campbell, Australian Capital Territory 2612 (AU) (For All Designated States Except US).
THE UNIVERSITY OF MELBOURNE [AU/AU]; University of Melbourne Victoria 3010 (AU) (For All Designated States Except US).
JASIENIAK, Jacek [AU/AU]; (AU) (For US Only).
MACDONALD, Brandon [CA/AU]; (AU) (For US Only).
MULVANEY, Paul [AU/AU]; (AU) (For US Only)
Inventors: JASIENIAK, Jacek; (AU).
MACDONALD, Brandon; (AU).
MULVANEY, Paul; (AU)
Agent: GRIFFITH HACK; Patent & Trade Mark Attorneys GPO Box 1285 Melbourne, VIC 3001 (AU)
Priority Data:
2010904464 05.10.2010 AU
Title (EN) SINTERED DEVICE
(FR) DISPOSITIF FRITTÉ
Abstract: front page image
(EN)A method for the production of an inorganic film on a substrate, the method comprising: (a) depositing a layer of nanoparticles on the substrate by contacting the substrate with a nanoparticle dispersion; (b) treating the deposited layer of nanoparticles to prevent removal of the nanoparticles in subsequent layer depositing steps; (c) depositing a further layer of nanoparticles onto the preceding nanoparticle layer on the substrate; (d) repeating treatment step (b) and deposition step (c) at least one further time; and (e) optionally thermally annealing the multilayer film produced following steps (a) to (d); wherein the method comprises at least one thermal annealing step in which the layer or layers of nanoparticles are thermally annealed.
(FR)L'invention concerne un procédé de production d'un film inorganique sur un substrat, le procédé consistant à : (a) déposer une couche de nanoparticules sur le substrat en mettant le substrat en contact avec une dispersion de nanoparticules; (b) traiter la couche déposée de nanoparticules pour empêcher le retrait des nanoparticules lors d'étapes ultérieures de dépôt de couches; (c) déposer une autre couche de nanoparticules sur la couche précédente de nanoparticules sur le substrat; (d) répéter l'étape de traitement (b) et l'étape de dépôt (c) au moins une autre fois; et (e) éventuellement, recuire thermiquement le film multicouche produit après les étapes (a) à (d). Le procédé comprend au moins une étape de recuit thermique dans laquelle la ou les couches de nanoparticules sont recuites thermiquement.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)