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1. (WO2012044533) INTEGRATED SHADOW MASK/CARRIER FOR PATTERN ION IMPLANTATION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/044533    International Application No.:    PCT/US2011/052970
Publication Date: 05.04.2012 International Filing Date: 23.09.2011
IPC:
H01L 21/677 (2006.01), H01J 37/317 (2006.01), H01L 21/687 (2006.01)
Applicants: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. [US/US]; 35 Dory Road Gloucester, MA 01930 (US) (For All Designated States Except US).
BATEMAN, Nicholas, P., T. [US/US]; (US) (For US Only).
DANIELS, Kevin, M. [US/US]; (US) (For US Only).
GUPTA, Atul [IN/US]; (US) (For US Only).
LOW, Russell, J. [GB/US]; (US) (For US Only).
RIORDON, Benjamin, D. [US/US]; (US) (For US Only).
MITCHELL, Robert, J. [US/US]; (US) (For US Only).
ANELLA, Steven, M. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: BATEMAN, Nicholas, P., T.; (US).
DANIELS, Kevin, M.; (US).
GUPTA, Atul; (US).
LOW, Russell, J.; (US).
RIORDON, Benjamin, D.; (US).
MITCHELL, Robert, J.; (US).
ANELLA, Steven, M.; (US)
Agent: LUCEK, Nathaniel; Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 35 Dory Road Gloucester, MA 01930 (US)
Priority Data:
12/895,927 01.10.2010 US
Title (EN) INTEGRATED SHADOW MASK/CARRIER FOR PATTERN ION IMPLANTATION
(FR) MASQUE/PORTEUR PERFORÉ INTÉGRÉ POUR IMPLANTATION IONIQUE PAR MOTIF
Abstract: front page image
(EN)An improved, lower cost method of processing substrates, such as to create solar cells is disclosed. In addition, a modified substrate carrier is disclosed. The carriers typically used to carry the substrates are modified so as to serve as shadow masks for a patterned implant. In some embodiments, various patterns cart be created using the carriers such that different process steps can be performed on the substrate by changing the carrier or the position with the carrier, in addition, since the alignment of the substrate to the carrier is critical, the carrier may contain alignment features to insure that the substrate is positioned properly on the carrier, in some embodiments, gravity is used to held the substrate on the carrier, and therefore, the ions are directed so that the ion beam travels upward toward the bottom side of the carrier.
(FR)La présente invention concerne un procédé amélioré et plus économique de traitement de substrats, servant notamment à la création de cellules solaires. L'invention concerne également un porteur de substrat modifié. Les porteurs typiquement utilisés pour porter les substrats sont modifiés de façon à servir de masque perforé pour une implantation par motif. Dans certains modes de réalisation, divers motifs peuvent être créés en utilisant les porteurs de façon à pouvoir réaliser différentes étapes de traitement sur le substrat en changeant le porteur ou la position avec le porteur. De plus, étant donné que l'alignement du substrat sur le porteur est critique, le porteur peut contenir des éléments d'alignement afin d'assurer un positionnement correct du substrat sur le porteur. Dans certains modes de réalisation, on utilise la gravité pour maintenir le substrat sur le porteur, ce qui permet ainsi de diriger les ions de façon à ce que le faisceau ionique se déplace vers le haut en direction du côté inférieur du porteur.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)