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1. (WO2012044465) PRODUCTION METHODS USING TWO EXPOSURE TOOLS AND ADJACENT EXPOSURES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/044465    International Application No.:    PCT/US2011/051718
Publication Date: 05.04.2012 International Filing Date: 15.09.2011
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: TRUESENSE IMAGING, INC. [US/US]; 1964 Lake Avenue Rochester, NY 14615 (US) (For All Designated States Except US).
FABINSKI, Robert, Pierre [US/US]; (US) (For US Only).
MEISENZAHL, Eric, John [US/US]; (US) (For US Only).
DORAN, James, E. [US/US]; (US) (For US Only).
SUMMA, Joseph [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: FABINSKI, Robert, Pierre; (US).
MEISENZAHL, Eric, John; (US).
DORAN, James, E.; (US).
SUMMA, Joseph; (US)
Agent: FRANK, Steven, J.; Bingham McCutchen LLP 2020 K Street, N.W. Washington, DC 20006-1806 (US)
Priority Data:
61/388,011 30.09.2010 US
61/388,009 30.09.2010 US
61/388,020 30.09.2010 US
13/196,197 02.08.2011 US
13/196,163 02.08.2011 US
Title (EN) PRODUCTION METHODS USING TWO EXPOSURE TOOLS AND ADJACENT EXPOSURES
(FR) PROCÉDÉS DE FABRICATION UTILISANT DEUX OUTILS D'EXPOSITION ET DES EXPOSITIONS ADJACENTES
Abstract: front page image
(EN)A method for producing a device (700) in one or more layers of pattemable material disposed over a substrate uses multiple exposure tools having different resolution limits and maximum expose field sizes. An abutting field pattern (502, 504, 506, 508) is exposed and stitched in one layer of pattemable material using one exposure tool and a first mask. A periphery pattern (510) is then exposed in the same layer or in a different layer of pattemable material using a second exposure tool and a second mask. The maximum expose field of the first exposure tool is smaller than a size of the device while the maximum expose field of the second exposure tool is at least as large as, or larger, the size of the device so that the combination of the stitched abutting field pattern and the periphery pattern forms a complete pattern in the pattemable material.
(FR)Un procédé de fabrication d'un dispositif (700) dans une ou plusieurs couches de matériau pouvant porter des motifs disposées sur un substrat utilise plusieurs outils d'exposition qui présentent différentes limites de résolution et des dimensions d'un champ d'exposition maximale. Un motif de champ attenant (502, 504, 506, 508) est exposé et fixé dans une couche du matériau pouvant porter des motifs, à l'aide d'un outil d'exposition et d'un premier masque. Un motif périphérique (510) est ensuite exposé dans la même couche ou dans une couche différente du matériau pouvant porter des motifs, à l'aide d'un second outil d'exposition et d'un second masque. Le champ d'exposition maximale du premier outil d'exposition est plus petit que la taille du dispositif alors que le champ d'exposition maximale du second outil d'exposition est au moins aussi grand, ou plus grand, que la taille du dispositif, de sorte que l'association du motif de champ attenant fixé et du motif périphérique forme un motif complet dans le matériau pouvant porter des motifs.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)