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1. (WO2012044258) FILTER FOR REMOVING MACRO-PARTICLES FROM A PLASMA BEAM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/044258    International Application No.:    PCT/SG2011/000342
Publication Date: 05.04.2012 International Filing Date: 30.09.2011
IPC:
H01J 3/40 (2006.01), C23C 4/00 (2006.01), H05H 7/00 (2006.01)
Applicants: NANOFILM TECHNOLOGIES INTERNATIONAL PTE LTD [SG/SG]; Block 28, Ayer Rajah Crescent, #02-02/03/04, Ayer Rajah Industrial Estate Singapore 139959 (SG) (For All Designated States Except US).
SHI, Xu [SG/SG]; (SG) (For US Only).
WEI, Hao [NZ/SG]; (SG) (For US Only)
Inventors: SHI, Xu; (SG).
WEI, Hao; (SG)
Agent: ELLA CHEONG SPRUSON & FERGUSON (SINGAPORE) PTE LTD; Robinson Road Post Office P.O. Box 1531 Singapore 903031 (SG)
Priority Data:
1016501.7 01.10.2010 GB
Title (EN) FILTER FOR REMOVING MACRO-PARTICLES FROM A PLASMA BEAM
(FR) FILTRE POUR RETIRER DES MACROPARTICULES D'UN FAISCEAU DE PLASMA
Abstract: front page image
(EN)A filter for filtering macro-particles from a plasma beam, the filter comprising a bended duct for carriage of said plasma beam, the bended duct comprising an intermediate portion connected at one end to an inlet portion having a longitudinal axis disposed on an inlet plane and at another opposite end to an outlet portion having a longitudinal axis disposed on an outlet plane, said inlet portion allowing said plasma beam containing macro-particles to travel toward said intermediate portion in an incident direction and said outlet portion allowing said plasma beam to travel from said intermediate portion in an emergent direction, said intermediate portion being configured to deviate the incident direction to the emergent direction at an angle of more than 90° and thereby remove macro-particles from said plasma beam as it passes through said intermediate portion, and wherein said inlet plane and outlet plane are disposed at an offset angle from each other.
(FR)L'invention porte sur un filtre destiné à éliminer par filtrage des macroparticules d'un faisceau de plasma, le filtre comprenant un conduit coudé pour le transport dudit faisceau de plasma, le conduit coudé comprenant une partie intermédiaire raccordée par une extrémité à une partie d'entrée ayant un axe longitudinal agencée sur un plan d'entrée et par une autre extrémité opposée à une partie de sortie ayant un axe longitudinal agencée sur un plan de sortie, ladite partie d'entrée permettant audit faisceau de plasma contenant des macroparticules de se propager vers ladite partie intermédiaire dans une direction incidente et ladite partie de sortie permettant audit faisceau de plasma de se propager à partir de ladite partie intermédiaire dans une direction émergente, ladite partie intermédiaire étant configurée pour dévier la direction incidente jusqu'à la direction émergente à un angle supérieur à 90° et ainsi retirer des macroparticules dudit faisceau de plasma à mesure qu'il passe à travers ladite partie intermédiaire, ledit plan d'entrée et ledit plan de sortie étant agencés à un angle de décalage l'un par rapport à l'autre.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)