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1. (WO2012043685) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, POLYMER, AND COMPOUND
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/043685    International Application No.:    PCT/JP2011/072298
Publication Date: 05.04.2012 International Filing Date: 28.09.2011
IPC:
C08L 33/04 (2006.01), C08F 220/18 (2006.01), C08F 224/00 (2006.01), C08L 37/00 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Applicants: JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP) (For All Designated States Except US).
IKEDA Norihiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NAKAMURA Shin-ichi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: IKEDA Norihiko; (JP).
NAKAMURA Shin-ichi; (JP)
Agent: AMANO Kazunori; c/o Amano & Partners, 6th Floor, Fujikogyo-Nishimotomachi Building, 1-18, Aioi-cho 1-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6500025 (JP)
Priority Data:
2010-220482 30.09.2010 JP
2010-227871 07.10.2010 JP
2011-007348 17.01.2011 JP
PCT/JP2011/071400 20.09.2011 JP
Title (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, POLYMER, AND COMPOUND
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT, POLYMÈRE ET COMPOSÉ
(JA) 感放射線性樹脂組成物、重合体及び化合物
Abstract: front page image
(EN)The present invention is a radiation-sensitive resin composition containing: [A] a polymer that has a structural unit (I) derived from a compound represented by formula (1) and a structural unit (II) derived from a compound represented by formula (2); [B] an acid generator; and [C] an organic solvent. In formula (1), R1 forms a C3-8 ring structure together with a carbon atom in a lactone ring; R2 represents a fluorine atom, a hydroxyl group, or a C1-20 organic group; and a is an integer from 0 to 6. If a is 2 or greater, the plurality of R2s may be the same as or different from each other and may also be bonded to each other, forming a ring structure. At least one group selected from among R1 and the R2 group(s) has a heteroatom or a halogen atom.
(FR)L'invention concerne une composition de résine sensible au rayonnement, qui contient: [A] un polymère comportant un motif structural (I) dérivé d'un composé représenté par la formule (1), et un motif structural (II) dérivé d'un composé représenté par la formule (2); [B] un générateur d'acide; et un solvant organique [C]. Dans la formule (1), R1 forme une structure de noyau en C3-8 avec un atome de carbone dans un noyau lactone; R2 représente un atome de fluor, un groupe hydroxyle ou un groupe organique en C1-20; et a représente un nombre entier compris entre 0 et 6. Si a est supérieur ou égal à 2, la pluralité des R2 peuvent être identiques ou différents, et peuvent aussi être liés entre eux de manière à former une structure de noyau. Au moins un groupe, sélectionné entre les groupes R1 et R2, comporte un hétéroatome ou un atome d'halogène.
(JA) 本発明は、[A]下記式(1)で表される化合物に由来する構造単位(I)と、下記式(2)で表される化合物に由来する構造単位(II)とを有する重合体、[B]酸発生体、及び[C]有機溶媒を含む感放射線性樹脂組成物である。式(1)中、Rはラクトン環を構成している炭素原子と共に、炭素数3~8の環構造を形成する。Rはフッ素原子、水酸基又は炭素数1~20の有機基である。aは0~6の整数である。aが2以上の場合、複数のRは同一又は異なっていてもよく、互いに結合して環構造を形成してもよい。但し、R及びRの少なくとも1つの基は、ヘテロ原子又はハロゲン原子を有している。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)