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1. (WO2012043487) VAPOR DEPOSITION APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/043487    International Application No.:    PCT/JP2011/071909
Publication Date: 05.04.2012 International Filing Date: 26.09.2011
IPC:
C23C 14/04 (2006.01), C23C 14/24 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
Applicants: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (For All Designated States Except US).
KAWATO, Shinichi; (For US Only).
INOUE, Satoshi; (For US Only).
SONODA, Tohru; (For US Only)
Inventors: KAWATO, Shinichi; .
INOUE, Satoshi; .
SONODA, Tohru;
Agent: HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041 (JP)
Priority Data:
2010-219712 29.09.2010 JP
Title (EN) VAPOR DEPOSITION APPARATUS
(FR) APPAREIL DE DÉPÔT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE
(JA) 蒸着装置
Abstract: front page image
(EN)A vapor deposition apparatus (50) comprises: a mask unit (54) that comprises a vapor deposition source (70), a vapor deposition mask (60) and a mask holding member (80); a substrate holder (52); and a mask unit moving mechanism (55) and/or a substrate moving mechanism (53). At least one of the substrate holder (52) and the mask holding member (80) is provided with a roller (83) on a surface that faces the other.
(FR)La présente invention concerne un appareil de dépôt par évaporation sous vide (50) comportant: une unité de masque (54) qui comprend une source de dépôt par évaporation sous vide (70), un masque de dépôt par évaporation sous vide (60) et un organe de maintien de masque (80) ; un support de substrat (52) ; et un mécanisme de déplacement d'unité de masque (55) et/ou un mécanisme de déplacement de substrat (53). Au moins un parmi le support de substrat (52) et l'organe de maintien de masque (80) est équipé d'un galet (3) sur une surface en regard de l'autre.
(JA) 蒸着装置(50)は、蒸着源(70)と蒸着マスク(60)とマスク保持部材(80)とを備えたマスクユニット(54)と、基板ホルダ(52)と、マスクユニット移動機構(55)および基板移動機構(53)のうち少なくとも一方とを備えている。基板ホルダ(52)およびマスク保持部材(80)のうち少なくとも一方における他方との対向面には、ローラ(83)が設けられている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)