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1. (WO2012043109) METHOD FOR PRODUCING POROUS PLATE FOR MICROARRAY OR THE LIKE, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION USED FOR THE METHOD, POROUS PLATE FOR MICROARRAY OR THE LIKE, AND SUBSTRATE FOR MICROARRAY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/043109    International Application No.:    PCT/JP2011/069418
Publication Date: 05.04.2012 International Filing Date: 29.08.2011
IPC:
G01N 33/53 (2006.01), G01N 37/00 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01)
Applicants: JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP) (For All Designated States Except US).
ABIKO, Satoko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ISHIKAWA, Satoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
GOTO, Hirofumi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MIZUNO, Hikaru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ARAKI, Toshiharu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: ABIKO, Satoko; (JP).
ISHIKAWA, Satoshi; (JP).
GOTO, Hirofumi; (JP).
MIZUNO, Hikaru; (JP).
ARAKI, Toshiharu; (JP)
Agent: SSINPAT PATENT FIRM; Gotanda Yamazaki Bldg. 6F, 13-6, Nishigotanda 7-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410031 (JP)
Priority Data:
2010-221983 30.09.2010 JP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING POROUS PLATE FOR MICROARRAY OR THE LIKE, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION USED FOR THE METHOD, POROUS PLATE FOR MICROARRAY OR THE LIKE, AND SUBSTRATE FOR MICROARRAY
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE PLAQUE POREUSE POUR MICRORÉSEAU OU DISPOSITIF SIMILAIRE, COMPOSITION PHOTOSENSIBLE UTILISÉE POUR LE PROCÉDÉ, PLAQUE POREUSE POUR MICRORÉSEAU OU DISPOSITIF SIMILAIRE ET SUBSTRAT POUR MICRORÉSEAU
(JA) マイクロアレイ用等の細孔板の製造方法、前記方法に用いられる感光性組成物、マイクロアレイ用等の細孔板およびマイクロアレイ用基板
Abstract: front page image
(EN)[Problem] To provide a method for producing a porous plate without using a mechanical process or a dry process. [Solution] A method for producing a porous plate that has at least one pore which has a side wall surface that is at least partially lipophilic. The method for producing a porous plate comprises: (1) a step wherein a first photosensitive film is formed on a base substrate and a second photosensitive film that contains a lipophilicity-imparting component is formed on the first photosensitive film; (2) a step wherein the first photosensitive film and the second photosensitive film are selectively exposed to light; and (3) a step wherein the first photosensitive film after the light exposure and the second photosensitive film after the light exposure are developed.
(FR)L'invention concerne un procédé de production d'une plaque poreuse sans utiliser de procédé mécanique ni de procédé à sec. Elle concerne un procédé de production d'une plaque poreuse qui comprend au moins un pore qui a une surface de paroi latérale qui est au moins partiellement lipophile. Le procédé de production d'une plaque poreuse comprend : (1) une étape dans laquelle un premier film photosensible est formé sur un substrat de base et un deuxième film photosensible qui contient un composant conférant une lipophilie est formé sur le premier film photosensible ; (2) une étape dans laquelle le premier film photosensible et le deuxième film photosensible sont sélectivement exposés à la lumière ; et (3) une étape dans laquelle le premier film photosensible, après exposition à la lumière, et le deuxième film photosensible, après exposition à la lumière, sont développés.
(JA)[課題]力学的なプロセスやドライプロセスを用いずに、細孔板を製造する方法の提供。 [解決手段](1)ベース基板上に第1感光性膜を形成し、前記第1感光性膜上に親油性付与成分を含有する第2感光性膜を形成する工程、(2)前記第1感光性膜および前記第2感光性膜を選択的に露光する工程、ならびに(3)露光後の第1感光性膜および露光後の第2感光性膜を現像する工程を有する、少なくとも1つの細孔を有し、前記細孔の側壁面の少なくとも一部が親油性を有する細孔板の製造方法。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)