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1. (WO2012043010) METAL FILM MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/043010    International Application No.:    PCT/JP2011/065618
Publication Date: 05.04.2012 International Filing Date: 07.07.2011
IPC:
C23C 18/18 (2006.01), B41M 5/00 (2006.01), C09D 11/00 (2014.01), C09D 11/326 (2014.01), C09D 11/38 (2014.01), C09D 11/52 (2014.01), C23C 18/16 (2006.01), C23C 18/20 (2006.01), H05K 3/18 (2006.01), H05K 3/38 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP) (For All Designated States Except US).
KARIYA, Toshihiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KASAI, Seishi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TSURUMI, Mitsuyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KARIYA, Toshihiro; (JP).
KASAI, Seishi; (JP).
TSURUMI, Mitsuyuki; (JP)
Agent: NAKAJIMA, Jun; TAIYO, NAKAJIMA & KATO, Seventh Floor, HK-Shinjuku Bldg., 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Priority Data:
2010-219421 29.09.2010 JP
Title (EN) METAL FILM MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) MATÉRIAU DE FILM MÉTALLIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 金属膜材料及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN)The present invention provides a method for manufacturing a metal film material comprising: an ink application step wherein an ink composition containing a first monomer having at least one group selected from a cyano group, alkyloxy group, amino group, pyridine residue, pyrrolidone residue, imidazole residue, alkylsulfonyl group, and ether residue, a second monomer that is polyfunctional, and a polymerization initiator, such that the total monomer content is 85% by mass or greater, is applied by discharging onto a substrate by an inkjet method; a cured film forming step for forming a cured film by carrying out at least one of light exposure or heating of the ink composition that has been applied; a catalyst application step for applying a plating catalyst or a precursor thereof to the cured film; and a plating processing step that performs plating of the plating catalyst or precursor thereof that has been applied.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un matériau de film métallique qui comprend : une étape d'application d'encre dans laquelle une composition d'encre contenant un premier monomère portant au moins un groupe choisi parmi un groupe cyano, un groupe alkyloxy, un groupe amino, un résidu pyridine, un résidu pyrrolidone, un résidu imidazole, un groupe alkylsulfonyle et un résidu éther, un deuxième monomère qui est polyfonctionnel, et un initiateur de polymérisation, la teneur totale en monomères étant d'au moins 85 % en masse et appliquée par projection sur un substrat par un procédé à jet d'encre ; une étape consistant à former un film durci en exposant à la lumière et/ou en chauffant la composition d'encre qui a été appliquée ; une étape consistant à appliquer un catalyseur de métallisation ou un précurseur de celui-ci sur le film durci ; et une étape de traitement de métallisation qui effectue la métallisation du catalyseur de métallisation ou du précurseur de celui-ci qui a été appliqué.
(JA) 本発明によれば、シアノ基、アルキルオキシ基、アミノ基、ピリジン残基、ピロリドン残基、イミダゾール残基、アルキルスルファニル基、及び環状エーテル残基から選択される少なくとも1つの基を有する第1のモノマー、多官能性を有する第2のモノマー、並びに重合開始剤を含み、モノマーの合計含有量が85質量%以上であるインク組成物を、インクジェット法により基板上に吐出して付与するインク付与工程と、付与された前記インク組成物に露光及び加熱の少なくとも一方を行い、硬化膜を形成する硬化膜形成工程と、前記硬化膜にめっき触媒又はその前駆体を付与する触媒付与工程と、付与された前記めっき触媒又はその前駆体に対してめっきを行うめっき処理工程と、を含む金属膜材料の製造方法が提供される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)