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1. (WO2012042769) METHOD FOR PRODUCING GLASS SUBSTRATES FOR HARD DISKS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/042769    International Application No.:    PCT/JP2011/005184
Publication Date: 05.04.2012 International Filing Date: 14.09.2011
IPC:
G11B 5/84 (2006.01), B24B 1/00 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01), B24B 57/02 (2006.01), C03C 19/00 (2006.01)
Applicants: Konica Minolta Advanced Layers, Inc. [JP/JP]; 2970, Ishikawa-machi, Hachioji-shi, Tokyo 1928505 (JP) (For All Designated States Except US).
SHIMAZU, Noriko [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SHIMAZU, Noriko; (JP)
Agent: KOTANI, Etsuji; Osaka Nakanoshima Building 2nd Floor 2-2, Nakanoshima 2-chome Kita-ku, Osaka-shi Osaka 5300005 (JP)
Priority Data:
2010-221978 30.09.2010 JP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING GLASS SUBSTRATES FOR HARD DISKS
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRATS DE VERRE POUR DISQUES DURS
(JA) ハードディスク用ガラス基板の製造方法
Abstract: front page image
(EN)A method for producing glass substrates for hard disks, wherein the amount of colloidal silica contained in a polishing liquid that is deposited on a glass substrate is reduced. The method for producing glass substrates for hard disks includes a precision polishing step (D) in which a polishing liquid containing a colloidal silica is used. In the precision polishing step (D), the ζ potential (ζS) of the colloidal silica, the ζ potential (ζG) of the glass substrate, and the ζ potential (ζP) of a polishing pad are all less than 0 (ζS < 0, ζG < 0, and ζP < 0), and the glass substrates are polished under a condition in which the ζ potential of the glass substrates is lower than the ζ potential of the polishing pad (ζG < ζP).
(FR)L'invention concerne un procédé de production de substrats de verre pour disques durs, qui permet de réduire la quantité de silice colloïdale contenue dans un liquide de polissage et qui est déposée sur un substrat de verre. Le procédé de production de substrats de verre pour disques durs comprend une étape de polissage de précision (D), dans laquelle un liquide de polissage contenant une silice colloïdale est utilisé. Dans l'étape de polissage de précision (D), le potentiel ζ (ζS) de la silice colloïdale, le potentiel ζ (ζG) du substrat de verre et le potentiel ζ (ζP) d'un tampon de polissage sont tous inférieurs à0 (ζS < 0, ζG < 0 et ζP < 0), et les substrats de verre sont polis sous la condition suivante : le potentiel ζ des substrats de verre est inférieur au potentiel ζ du tampon de polissage (ζG < ζP).
(JA)ハードディスク用ガラス基板の製造方法において、研磨液に含有されるコロイダルシリカのガラス基板への付着量を低減する。ハードディスク用ガラス基板の製造方法は、コロイダルシリカを含有する研磨液が用いられる精密研磨工程Dを含む。精密研磨工程Dにおいて、コロイダルシリカのζ電位(ζS)、ガラス基板のζ電位(ζG)、及び研磨パッドのζ電位(ζP)がすべて0未満であり(ζS<0、ζG<0、ζP<0)、かつ、ガラス基板のζ電位が研磨パッドのζ電位よりも低い(ζG<ζP)電位条件の下で、ガラス基板を研磨する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)