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1. (WO2012042715) INSPECTION DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/042715    International Application No.:    PCT/JP2011/004066
Publication Date: 05.04.2012 International Filing Date: 19.07.2011
IPC:
G01N 21/956 (2006.01)
Applicants: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (For All Designated States Except US).
MOHARA, Yukihisa [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NISHIYAMA, Hidetoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
CHIKAMATSU, Shuichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
IMAI, Eiji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TANIGUCHI, Koichi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MOHARA, Yukihisa; (JP).
NISHIYAMA, Hidetoshi; (JP).
CHIKAMATSU, Shuichi; (JP).
IMAI, Eiji; (JP).
TANIGUCHI, Koichi; (JP)
Agent: INOUE, Manabu; c/o HITACHI,LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
Priority Data:
2010-214662 27.09.2010 JP
Title (EN) INSPECTION DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'INSPECTION
(JA) 検査装置
Abstract: front page image
(EN)In existing devices, vibrations of internal structures (for example, detection optics, a wafer chuck, a θ-stage, and a Z-stage mounted above a stage linear scale) are not correctly fed back into coordinate values. The present invention is an inspection device characterized by having: a substrate retention unit that holds a substrate; a movement unit that moves said substrate retention unit; an illumination unit that shines light on the substrate; a charge-accumulation detection unit that detects light from the substrate and accumulates charge; a measurement unit that measures changes in the positional relationship between the substrate retention unit and the movement unit; and a processing unit. This inspection device is further characterized in that: the charge-accumulation detection unit accumulates charge on the basis of a charge-transfer signal obtained on the basis of measurement results from the measurement unit; and using an image generated as a result of charge being accumulated on the basis of said charge-transfer signal, the processing unit detects defects in the substrate.
(FR)Dans les dispositifs existants, les vibrations de structures internes (comme une optique de détection, un support de tranche, un étage θ, un étage Z monté sur une échelle linéaire d'étage) ne sont pas correctement renvoyées sous forme de valeurs de coordonnées. La présente invention concerne un dispositif d'inspection caractérisé en ce qu'il comprend : une unité de rétention de substrat qui maintient un substrat ; une unité de déplacement qui déplace l'unité de rétention de substrat ; une unité d'éclairage qui envoie de la lumière sur le substrat ; une unité de détection d'accumulation de charge qui détecte la lumière venant du substrat et accumule une charge ; une unité de mesure qui mesure les changements de la relation de position entre l'unité de rétention de substrat et l'unité de déplacement ; et une unité de traitement. Ce dispositif d'inspection est en outre caractérisé en ce que : l'unité de détection d'accumulation de charge accumule une charge en fonction d'un signal de transfert de charge obtenu à partir des résultats de mesure de l'unité de mesure ; et en utilisant une image générée à la suite de l'accumulation d'une charge en fonction dudit signal de transfert de charge, l'unité de traitement détecte des défauts dans le substrat.
(JA) 従来技術では装置内の構成(例えば、ステージ用リニアスケールより上に搭載されているZステージ,Θステージ,ウェハチャック、及び検出光学系等)の振動が座標値に正しくフィードバックされない。 本発明は、基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部を移動する移動部と、前記基板に光を照射する照射部と、前記基板からの光を検出し、電荷を蓄積する電荷蓄積型検出部と、前記基板保持部と前記移動部との相対的な位置の変化を計測する計測部と、処理部とを有し、前記電荷蓄積型検出部は、前記計測部の計測結果に基づいて得られた電荷転送信号に基づいて電荷を蓄積し、前記処理部は、前記電荷転送信号に基づいて電荷が蓄積されることにより生成された画像を使用して前記基板の欠陥を検出することを特徴とする検査装置。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)