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1. (WO2012042040) LOW FREE FORMALDEHYDE PHENOLIC RESINS FOR ABRASIVE PRODUCTS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/042040    International Application No.:    PCT/EP2011/067181
Publication Date: 05.04.2012 International Filing Date: 30.09.2011
Chapter 2 Demand Filed:    16.07.2012    
IPC:
C08G 8/28 (2006.01), C09G 1/02 (2006.01), B24D 3/28 (2006.01)
Applicants: DYNEA CHEMICALS OY [FI/FI]; Lautatarhankatu 6 FIN-00580 Helsinki (FI) (For All Designated States Except US).
TUMLER, Armin [AT/AT]; (AT) (For US Only)
Inventors: TUMLER, Armin; (AT)
Agent: DERKS, Wilhelmus; Rembrandt Tower, 31st floor Amstelplein 1 NL-1096 HA Amsterdam (NL)
Priority Data:
1016565.2 01.10.2010 GB
Title (EN) LOW FREE FORMALDEHYDE PHENOLIC RESINS FOR ABRASIVE PRODUCTS
(FR) RÉSINES PHÉNOLIQUES À FAIBLE TENEUR EN FORMALDÉHYDE LIBRE POUR PRODUITS ABRASIFS
Abstract: front page image
(EN)The present invention provides process for the manufacture of an aqueous resin composition comprising a phenolic formaldehyde (PF) resin, which process comprises the steps of:providing a formaldehyde and phenolic compound, reacting said compounds in a condensation reaction in the presence of a catalyst, after completion of the condensation reaction to react with free formaldehyde, determining the free formaldehyde content of the resin composition, adding a pre-calculated substantially stoichiometric amount of modifying compound containing a primary amine group to reduce the amount of free formaldehyde in the resin composition to less than 0.1 wt% (relative to the total weight of the aqueous resin composition), and optionally distillation of the reaction product.
(FR)La présente invention porte sur un procédé de fabrication d'une composition aqueuse de résine qui comporte une résine de phénol-formaldéhyde (PF). Ledit procédé comporte les étapes suivantes : l'utilisation d'un composé de formaldéhyde et d'un composé phénolique, la réaction desdits composés dans une réaction de condensation en présence d'un catalyseur; une fois la réaction de condensation pour réagir avec du formaldéhyde libre terminée, la détermination de la teneur en formaldéhyde libre de la composition de résine, l'ajout d'une quantité sensiblement stœchiométrique, préalablement calculée, de composé modificateur contenant un groupe amine primaire pour réduire la quantité de formaldéhyde libre dans la composition de résine à moins de 0,1 % en poids (par rapport au poids total de la composition aqueuse de résine) et, éventuellement, la distillation du produit réactionnel.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)