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1. (WO2012041697) MIRROR, PROJECTION OBJECTIVE COMPRISING SUCH A MIRROR, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A PROJECTION OBJECTIVE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/041697    International Application No.:    PCT/EP2011/065873
Publication Date: 05.04.2012 International Filing Date: 13.09.2011
IPC:
G21K 1/06 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
FREIMANN, Rolf [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BAER, Norman [DE/DE]; (DE) (For US Only).
LIMBACH, Guido [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BOEHM, Thure [DE/DE]; (DE) (For US Only).
WITTICH, Gero [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: FREIMANN, Rolf; (DE).
BAER, Norman; (DE).
LIMBACH, Guido; (DE).
BOEHM, Thure; (DE).
WITTICH, Gero; (DE)
Agent: CARL ZEISS AG - PATENTABTEILUNG; Carl-Zeiss-Strasse 22 73447 Oberkochen (DE)
Priority Data:
10 2010 041 397.6 27.09.2010 DE
61/386,634 27.09.2010 US
10 2010 041 502.2 28.09.2010 DE
61/387,214 28.09.2010 US
Title (EN) MIRROR, PROJECTION OBJECTIVE COMPRISING SUCH A MIRROR, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A PROJECTION OBJECTIVE
(FR) MIROIR, OBJECTIF DE PROJECTION COMPRENANT UN TEL MIROIR ET APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION POUR UNE MICROLITHOGRAPHIE COMPRENANT UN TEL OBJECTIF DE PROJECTION
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to a mirror (la; la'; lb; lb'; lc; lc') comprising a substrate (S) and a layer arrangement, wherein the layer arrangement is designed in such a way that light (32) having a wavelength of less than 250 nm that is incident on the mirror (la; la'; lb; lb'; lc; lc') at at least an angle of incidence of between 0° and 30° is reflected with more than 20% of its intensity, and the layer arrangement comprises at least one surface layer system (Ρ"') consisting of a periodic sequence of at least two periods (P3) of individual layers, wherein the periods (P3) comprise two individual layers composed of different materials for a high refractive index layer (Η"') and a low refractive index layer (L'"), wherein the layer arrangement comprises at least one layer (G, SPL, B) composed of graphene. Furthermore, the invention relates to the use of graphene (G, SPL, B) on optical elements for reducing the surface roughness to less than 0.1 nm rms HSFR and/or for protecting the optical element in the EUV wavelength range against a radiation-induced irreversible change in volume of more than 1% and/or as a barrier layer for preventing interdiffusion between layers of so-called multilayer layer mirrors in the EUV wavelength range.
(FR)La présente invention concerne un miroir (la; la'; lb; lb'; lc; lc') comprenant un substrat (S) et un agencement de couches, l'agencement de couches étant conçu de sorte que la lumière (32) possédant une longueur d'onde inférieure à 250 nm qui est incidente sur le miroir (la; la'; lb; lb'; lc; lc') à au moins un angle d'incidence compris entre 0° et 30° soit réfléchie avec plus de 20 % de son intensité, et l'agencement de couches comprenant au moins un système de couches de surface (Ρ »') consistant en une séquence périodique d'au moins deux périodes (P3) de couches individuelles, les périodes (P3) comprenant deux couches individuelles composées de différents matériaux pour une couche à indice de réfraction élevé (Η »') et une couche à indice de réfraction faible (L'« ), l'agencement de couches comprenant au moins une couche (G, SPL, B) composée de graphène. En outre, l'invention concerne l'utilisation de graphène (G, SPL, B) sur des éléments optiques pour réduire la rugosité de surface à moins de 0,1 nm RMS HSFR et/ou pour protéger l'élément optique dans la plage de longueur d'onde dans l'UV extrême contre un changement de volume irréversible induit par rayonnement supérieur à 1 % et/ou en tant que couche barrière pour prévenir une interdiffusion entre des couches de ce que l'on appelle couramment des miroirs multicouches dans la plage de longueur d'onde dans l'UV extrême.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)